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1. 蒸発原料用容器及び固体気化供給システム

   出願日

   2022年7月5日

   登録番号

   7257079

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

2. 蒸発原料用容器及び固体気化供給システム

   出願日

   2022年7月5日

   登録番号

   7257079

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

3. ＶＯ２焼結体の製造方法およびＶＯ２焼結体スパッタリングターゲット

   出願日

   2019年10月30日

   登録番号

   7106138

   技術分野

   セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

4. ＶＯ２焼結体の製造方法およびＶＯ２焼結体スパッタリングターゲット

   出願日

   2019年10月30日

   登録番号

   7106138

   技術分野

   染料；ペイント；つや出し剤；天然樹脂；接着剤；他に分類されない組成物；他に分類されない材料の応用

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

5. ＶＯ２焼結体の製造方法およびＶＯ２焼結体スパッタリングターゲット

   出願日

   2019年10月30日

   登録番号

   7106138

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

6. ＭｇＯ－ＴｉＯ系スパッタリングターゲットの製造方法

   出願日

   2019年3月15日

   登録番号

   7178707

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

7. ＭｇＯ－ＴｉＯ系スパッタリングターゲットの製造方法

   出願日

   2019年3月15日

   登録番号

   7178707

   技術分野

   セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

8. 二酸化バナジウム薄膜の製造方法

   出願日

   2019年3月7日

   登録番号

   7301340

   技術分野

   無機化学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

9. 二酸化バナジウム薄膜の製造方法

   出願日

   2019年3月7日

   登録番号

   7301340

   技術分野

   無機化学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

10. 蒸発原料用容器、及びその蒸発原料用容器を用いた固体気化供給システム

    出願日

    2019年2月7日

    登録番号

    6887688

    技術分野

    電気分解または電気泳動方法；そのための装置

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

11. 蒸発原料用容器、及びその蒸発原料用容器を用いた固体気化供給システム

    出願日

    2019年2月7日

    登録番号

    6887688

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

12. 蒸発原料用容器、及びその蒸発原料用容器を用いた固体気化供給システム

    出願日

    2019年2月7日

    登録番号

    6887688

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

13. 蒸発原料用容器、及びその蒸発原料用容器を用いた固体気化供給システム

    出願日

    2019年2月7日

    登録番号

    6887688

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

14. 薄膜形成用金属ハロゲン化合物の固体気化供給システム。

    出願日

    2019年2月7日

    登録番号

    6901153

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

15. 薄膜形成用金属ハロゲン化合物の固体気化供給システム。

    出願日

    2019年2月7日

    登録番号

    6901153

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

16. 薄膜形成用金属ハロゲン化合物の固体気化供給システム。

    出願日

    2019年2月7日

    登録番号

    6901153

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

17. 薄膜形成用金属ハロゲン化合物の固体気化供給システム。

    出願日

    2019年2月7日

    登録番号

    6901153

    技術分野

    電気分解または電気泳動方法；そのための装置

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

18. ビス（アルキルテトラメチルシクロペンタジエニル）亜鉛、化学蒸着用原料、および亜鉛を含有する薄膜の製造方法

    出願日

    2018年12月6日

    登録番号

    7114072

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

19. ビス（アルキルテトラメチルシクロペンタジエニル）亜鉛、化学蒸着用原料、および亜鉛を含有する薄膜の製造方法

    出願日

    2018年12月6日

    登録番号

    7114072

    技術分野

    有機化学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

20. ビス（アルキルテトラメチルシクロペンタジエニル）亜鉛、化学蒸着用原料、および亜鉛を含有する薄膜の製造方法

    出願日

    2018年12月6日

    登録番号

    7114072

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

21. ビス（アルキルテトラメチルシクロペンタジエニル）亜鉛、化学蒸着用原料、および亜鉛を含有する薄膜の製造方法

    出願日

    2018年12月6日

    登録番号

    7114072

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

22. 負熱膨張性マンガン窒化物微粒子群の製造方法およびマンガン窒化物微粒子群

    出願日

    2018年7月20日

    登録番号

    7092303

    技術分野

    無機化学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

23. 負熱膨張性マンガン窒化物微粒子群の製造方法およびマンガン窒化物微粒子群

    出願日

    2018年7月20日

    登録番号

    7092303

    技術分野

    破砕，または粉砕；製粉のための穀粒の前処理

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

24. 負熱膨張性マンガン窒化物微粒子群の製造方法およびマンガン窒化物微粒子群

    出願日

    2018年7月20日

    登録番号

    7092303

    技術分野

    無機化学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

25. 負熱膨張性マンガン窒化物微粒子群の製造方法およびマンガン窒化物微粒子群

    出願日

    2018年7月20日

    登録番号

    7092303

    技術分野

    破砕，または粉砕；製粉のための穀粒の前処理

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

26. 金属薄膜の原子層堆積方法

    出願日

    2018年7月13日

    登録番号

    7245521

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

27. 金属薄膜の原子層堆積方法

    出願日

    2018年7月13日

    登録番号

    7245521

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

28. 金属薄膜の原子層堆積方法

    出願日

    2018年7月13日

    登録番号

    7245521

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

29. 金属薄膜の原子層堆積方法

    出願日

    2018年7月13日

    登録番号

    7245521

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

30. 蒸発原料用容器の製造方法

    出願日

    2018年6月25日

    登録番号

    7144032

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）