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日本酸素ＡＴＩ株式会社

特許 全24件

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全24件 （1〜24件目を表示）

  1. 気相成長装置の基板搬送機構及び基板搬送方法

    出願日
    2019年9月2日
    登録番号
    7257920
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 気相成長装置の基板搬送機構及び基板搬送方法

    出願日
    2019年9月2日
    登録番号
    7257920
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 気相成長装置の基板搬送機構及び基板搬送方法

    出願日
    2019年9月2日
    登録番号
    7257920
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 気相成長装置の基板搬送機構

    出願日
    2019年8月21日
    登録番号
    7257916
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 基板搬送装置及びこれを用いた基板取り出し方法

    出願日
    2019年8月21日
    登録番号
    7353863
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 基板搬送装置及びこれを用いた基板取り出し方法

    出願日
    2019年8月21日
    登録番号
    7353863
    技術分野
    手工具；可搬型動力工具；手工具用の柄；作業場設備；マニプレータ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 気相成長装置の基板搬送機構

    出願日
    2019年8月21日
    登録番号
    7257916
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 基板搬送装置及びこれを用いた基板取り出し方法

    出願日
    2019年8月21日
    登録番号
    7353863
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 気相成長装置の基板搬送機構

    出願日
    2019年8月21日
    登録番号
    7257916
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. 気相成長装置の基板搬送機構

    出願日
    2019年8月21日
    登録番号
    7257916
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. フランジ締結構造及びこれを用いた気相成長装置

    出願日
    2018年7月27日
    登録番号
    7165529
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. フランジ締結構造及びこれを用いた気相成長装置

    出願日
    2018年7月27日
    登録番号
    7165529
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  13. フランジ締結構造及びこれを用いた気相成長装置

    出願日
    2018年7月27日
    登録番号
    7165529
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  14. 気液反応装置、反応管、及び成膜装置

    出願日
    2018年5月17日
    登録番号
    7104906
    技術分野
    結晶成長
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  15. 気液反応装置、反応管、及び成膜装置

    出願日
    2018年5月17日
    登録番号
    7104906
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  16. 気液反応装置、反応管、及び成膜装置

    出願日
    2018年5月17日
    登録番号
    7104906
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  17. 気液反応装置、反応管、及び成膜装置

    出願日
    2018年5月17日
    登録番号
    7104906
    技術分野
    結晶成長
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  18. 反応装置

    出願日
    2016年5月23日
    登録番号
    6666793
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  19. 反応装置

    出願日
    2016年5月23日
    登録番号
    6666793
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  20. 反応装置

    出願日
    2016年5月23日
    登録番号
    6666793
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  21. 気相成長装置用部品の洗浄装置

    出願日
    2016年5月23日
    登録番号
    6679413
    技術分野
    清掃
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  22. 反応装置

    出願日
    2016年5月23日
    登録番号
    6666793
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  23. 気相成長装置

    出願日
    2015年1月26日
    登録番号
    6411231
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  24. 気相成長装置

    出願日
    2015年1月26日
    登録番号
    6411231
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）