プルミアム
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株式会社東京技術研究所

特許 全3件

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全3件 （1〜3件目を表示）

  1. 加熱部、基板処理装置、及び半導体装置の製造方法

    出願日
    2016年9月8日
    登録番号
    6616265
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 加熱部、基板処理装置、及び半導体装置の製造方法

    出願日
    2016年9月8日
    登録番号
    6616265
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 加熱部、基板処理装置、及び半導体装置の製造方法

    出願日
    2016年9月8日
    登録番号
    6616265
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）