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1. シリカ部材及びＬＥＤ装置

   出願日

   2021年12月20日

   登録番号

   7439039

   技術分野

   ガラス；鉱物またはスラグウール

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

2. シリカ部材及びＬＥＤ装置

   出願日

   2021年12月20日

   登録番号

   7439039

   技術分野

   光学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

3. シリカ部材及びＬＥＤ装置

   出願日

   2021年12月20日

   登録番号

   7439039

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

4. シリカ部材及びＬＥＤ装置

   出願日

   2021年12月20日

   登録番号

   7439039

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

5. シリカ部材及びＬＥＤ装置

   出願日

   2021年12月20日

   登録番号

   7439039

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

6. シリカ部材及びＬＥＤ装置

   出願日

   2021年12月20日

   登録番号

   7439039

   技術分野

   光学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

7. 電機用摺動ブラシ及びその製造方法

   出願日

   2020年12月28日

   登録番号

   7438614

   技術分野

   電力の発電，変換，配電

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

8. セッター

   出願日

   2020年12月25日

   登録番号

   7465205

   技術分野

   セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

9. セッター

   出願日

   2020年12月25日

   登録番号

   7465205

   技術分野

   炉；キルン，窯（かま）またはレトルト

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

10. 加熱成型治具及び加熱成型装置並びに加熱成型方法

    出願日

    2020年12月25日

    登録番号

    7387580

    技術分野

    ガラス；鉱物またはスラグウール

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

11. 半導体熱処理部材及びその製造方法

    出願日

    2020年12月23日

    登録番号

    7396977

    技術分野

    結晶成長

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

12. 半導体熱処理部材及びその製造方法

    出願日

    2020年12月23日

    登録番号

    7396977

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

13. 縦型ウェーハボート

    出願日

    2020年12月23日

    登録番号

    7431489

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

14. 半導体熱処理部材及びその製造方法

    出願日

    2020年12月23日

    登録番号

    7396977

    技術分野

    結晶成長

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

15. 半導体熱処理部材及びその製造方法

    出願日

    2020年12月23日

    登録番号

    7396977

    技術分野

    結晶成長

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

16. 縦型ウェーハボート

    出願日

    2020年12月23日

    登録番号

    7431489

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

17. 半導体熱処理部材及びその製造方法

    出願日

    2020年12月23日

    登録番号

    7396977

    技術分野

    無機化学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

18. 半導体熱処理部材及びその製造方法

    出願日

    2020年12月23日

    登録番号

    7396977

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

19. 半導体熱処理部材

    出願日

    2020年12月16日

    登録番号

    7431488

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

20. 半導体熱処理部材

    出願日

    2020年12月16日

    登録番号

    7431488

    技術分野

    無機化学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

21. 半導体熱処理部材

    出願日

    2020年12月16日

    登録番号

    7431488

    技術分野

    無機化学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

22. 半導体熱処理部材

    出願日

    2020年12月16日

    登録番号

    7431488

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

23. 半導体熱処理部材

    出願日

    2020年12月16日

    登録番号

    7431488

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

24. サセプタ及びその製造方法

    出願日

    2020年12月10日

    登録番号

    7470026

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

25. サセプタ及びその製造方法

    出願日

    2020年12月10日

    登録番号

    7470026

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

26. サセプタ及びその製造方法

    出願日

    2020年12月10日

    登録番号

    7470026

    技術分野

    結晶成長

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

27. サセプタ及びその製造方法

    出願日

    2020年12月10日

    登録番号

    7470026

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

28. サセプタ及びその製造方法

    出願日

    2020年12月10日

    登録番号

    7470026

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

29. サセプタ及びその製造方法

    出願日

    2020年12月10日

    登録番号

    7470026

    技術分野

    結晶成長

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

30. アルミナセラミックス

    出願日

    2020年9月28日

    登録番号

    7481980

    技術分野

    セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）