プルミアム
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エピクルー株式会社

特許 全4件

プルミアムが取得した明細を新しい日付順に掲載しています。30件ずつ表示し、最終ページまで確認できます。

全4件 （1〜4件目を表示）

  1. エピタキシャル成長装置のプロセスチャンバ

    出願日
    2019年7月25日
    登録番号
    7311916
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 半導体ウェーハ位置表示システム、半導体ウェーハ位置表示方法および半導体ウェーハ位置表示プログラム

    出願日
    2014年3月13日
    登録番号
    5710817
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 半導体ウェーハ位置表示システム、半導体ウェーハ位置表示方法および半導体ウェーハ位置表示プログラム

    出願日
    2014年3月13日
    登録番号
    5710817
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 半導体ウェーハ位置表示システム、半導体ウェーハ位置表示方法および半導体ウェーハ位置表示プログラム

    出願日
    2014年3月13日
    登録番号
    5710817
    技術分野
    計算または計数
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）