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1. マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法

   出願日

   2023年10月10日

   登録番号

   7445071

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

2. マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法

   出願日

   2023年10月10日

   登録番号

   7445071

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

3. 反応性イオンプレーティング装置および方法

   出願日

   2019年9月6日

   登録番号

   6788081

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

4. 反応性イオンプレーティング装置および方法

   出願日

   2019年9月6日

   登録番号

   6788081

   技術分野

   他に分類されない電気技術

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

5. 反応性イオンプレーティング装置および方法

   出願日

   2019年9月6日

   登録番号

   6788081

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

6. マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法

   出願日

   2019年1月25日

   登録番号

   7299028

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

7. マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法

   出願日

   2019年1月25日

   登録番号

   7299028

   技術分野

   他に分類されない電気技術

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

8. マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法

   出願日

   2019年1月25日

   登録番号

   7299028

   技術分野

   他に分類されない電気技術

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

9. マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法

   出願日

   2019年1月25日

   登録番号

   7299028

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

10. マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法

    出願日

    2019年1月25日

    登録番号

    7299028

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

11. マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法

    出願日

    2019年1月25日

    登録番号

    7299028

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

12. マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法

    出願日

    2019年1月25日

    登録番号

    7299028

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

13. マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法

    出願日

    2019年1月25日

    登録番号

    7299028

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

14. マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法

    出願日

    2019年1月25日

    登録番号

    7299028

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

15. 反応性イオンプレーティング装置および方法

    出願日

    2018年4月27日

    登録番号

    7084201

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

16. 反応性イオンプレーティング装置および方法

    出願日

    2018年4月27日

    登録番号

    7084201

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

17. 表面処理装置

    出願日

    2017年12月28日

    登録番号

    7160531

    技術分野

    物理的または化学的方法または装置一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

18. 表面処理装置

    出願日

    2017年12月28日

    登録番号

    7160531

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

19. 表面処理装置

    出願日

    2017年12月28日

    登録番号

    7160531

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

20. 表面処理装置

    出願日

    2017年12月28日

    登録番号

    7160531

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

21. 表面処理装置

    出願日

    2017年12月28日

    登録番号

    7160531

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

22. イオンプレーティング装置およびこれを用いたイットリア膜の形成方法

    出願日

    2017年2月1日

    登録番号

    6960137

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

23. イオンプレーティング装置およびこれを用いたイットリア膜の形成方法

    出願日

    2017年2月1日

    登録番号

    6960137

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

24. イオンプレーティング装置およびこれを用いたイットリア膜の形成方法

    出願日

    2017年2月1日

    登録番号

    6960137

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

25. マグネトロンスパッタ法による装飾被膜の形成方法

    出願日

    2017年1月26日

    登録番号

    6832572

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

26. マグネトロンスパッタ法による装飾被膜の形成方法

    出願日

    2017年1月26日

    登録番号

    6832572

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

27. マグネトロンスパッタ法による装飾被膜の形成方法

    出願日

    2017年1月26日

    登録番号

    6832572

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

28. マグネトロンスパッタ法による反応膜の形成装置および形成方法

    出願日

    2017年1月17日

    登録番号

    6935897

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

29. マグネトロンスパッタ法による反応膜の形成装置および形成方法

    出願日

    2017年1月17日

    登録番号

    6935897

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

30. マグネトロンスパッタ法による反応膜の形成装置および形成方法

    出願日

    2017年1月17日

    登録番号

    6935897

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）