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1. 吸着装置、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

   出願日

   2021年1月15日

   登録番号

   7246598

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

2. 吸着装置、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

   出願日

   2021年1月15日

   登録番号

   7246598

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

3. 吸着装置、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

   出願日

   2021年1月15日

   登録番号

   7246598

   技術分野

   他に分類されない電気技術

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

4. 吸着装置、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

   出願日

   2021年1月15日

   登録番号

   7246598

   技術分野

   他に分類されない電気技術

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

5. 吸着装置、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

   出願日

   2020年8月24日

   登録番号

   7007688

   技術分野

   他に分類されない電気技術

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

6. 吸着装置、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

   出願日

   2020年8月24日

   登録番号

   7007688

   技術分野

   他に分類されない電気技術

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

7. 吸着装置、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

   出願日

   2020年8月24日

   登録番号

   7007688

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

8. 吸着装置、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

   出願日

   2020年8月24日

   登録番号

   7007688

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

9. 静電チャックシステム、成膜装置、吸着及び分離方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

   出願日

   2019年9月17日

   登録番号

   7162845

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

10. 静電チャックシステム、成膜装置、吸着及び分離方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

    出願日

    2019年9月17日

    登録番号

    7162845

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

11. 静電チャックシステム、成膜装置、吸着及び分離方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

    出願日

    2019年9月17日

    登録番号

    7162845

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

12. 静電チャックシステム、成膜装置、吸着及び分離方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

    出願日

    2019年9月17日

    登録番号

    7162845

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

13. 静電チャックシステム、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

    出願日

    2018年11月27日

    登録番号

    7278541

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

14. 静電チャックシステム、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

    出願日

    2018年11月27日

    登録番号

    7278541

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

15. 静電チャックシステム、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

    出願日

    2018年11月27日

    登録番号

    7278541

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

16. 静電チャックシステム、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

    出願日

    2018年11月27日

    登録番号

    7278541

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

17. 静電チャックシステム、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

    出願日

    2018年11月27日

    登録番号

    7278541

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

18. 基板支持装置および成膜装置

    出願日

    2018年10月24日

    登録番号

    7289421

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

19. 成膜装置及びそれを用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法

    出願日

    2018年10月24日

    登録番号

    6703078

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

20. 基板支持装置および成膜装置

    出願日

    2018年10月24日

    登録番号

    7289421

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

21. 基板支持装置および成膜装置

    出願日

    2018年10月24日

    登録番号

    7289421

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

22. 成膜装置及びそれを用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法

    出願日

    2018年10月24日

    登録番号

    6703078

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

23. 成膜装置及びそれを用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法

    出願日

    2018年10月24日

    登録番号

    6703078

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

24. 成膜装置及びそれを用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法

    出願日

    2018年10月24日

    登録番号

    6703078

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

25. 成膜装置及びそれを用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法

    出願日

    2018年10月24日

    登録番号

    6703078

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

26. 成膜装置及びそれを用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法

    出願日

    2018年10月24日

    登録番号

    6703078

    技術分野

    教育；暗号方法；表示；広告；シール

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

27. 成膜装置及びそれを用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法

    出願日

    2018年10月24日

    登録番号

    6703078

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

28. 成膜装置及びそれを用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法

    出願日

    2018年10月24日

    登録番号

    6703078

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

29. 成膜装置及びそれを用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法

    出願日

    2018年10月24日

    登録番号

    6703078

    技術分野

    教育；暗号方法；表示；広告；シール

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

30. 基板支持装置および成膜装置

    出願日

    2018年10月24日

    登録番号

    7289421

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）