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Ｉ‐ＰＥＸ　Ｐｉｅｚｏ　Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ株式会社

特許 全149件

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全149件 （1〜30件目を表示）

  1. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2018年6月13日
    登録番号
    6498821
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2018年6月13日
    登録番号
    6498821
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2018年6月13日
    登録番号
    6498821
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2018年6月13日
    登録番号
    6498821
    技術分野
    セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2018年6月13日
    登録番号
    6498821
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2018年6月13日
    登録番号
    6498821
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2018年6月13日
    登録番号
    6498821
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2018年6月13日
    登録番号
    6498821
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2018年6月13日
    登録番号
    6498821
    技術分野
    セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2018年6月13日
    登録番号
    6498821
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2018年6月13日
    登録番号
    6498821
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2018年6月13日
    登録番号
    6498821
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  13. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2018年6月13日
    登録番号
    6498821
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  14. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2017年5月31日
    登録番号
    6937518
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  15. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2017年5月31日
    登録番号
    6937518
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  16. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2017年5月31日
    登録番号
    6937518
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  17. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2017年5月31日
    登録番号
    6937518
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  18. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2017年5月31日
    登録番号
    6937518
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  19. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2017年5月31日
    登録番号
    6937518
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  20. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2017年5月31日
    登録番号
    6937518
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  21. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2017年5月31日
    登録番号
    6937518
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  22. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2017年5月31日
    登録番号
    6937518
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  23. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2017年5月26日
    登録番号
    6881790
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  24. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2017年5月26日
    登録番号
    6881790
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  25. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2017年5月26日
    登録番号
    6881790
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  26. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2016年11月15日
    登録番号
    6910631
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  27. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2016年11月15日
    登録番号
    6910631
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  28. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2016年11月15日
    登録番号
    6910631
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  29. 膜構造体の製造方法

    出願日
    2016年11月15日
    登録番号
    7011760
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  30. 膜構造体及びその製造方法

    出願日
    2016年11月15日
    登録番号
    6910631
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）