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コアテクノロジー株式会社

特許 全11件

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全11件 （1〜11件目を表示）

  1. プラズマ処理装置

    出願日
    2016年3月3日
    登録番号
    6543406
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. プラズマ処理装置

    出願日
    2016年3月3日
    登録番号
    6662998
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. プラズマ処理装置

    出願日
    2016年3月3日
    登録番号
    6543406
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. プラズマ処理装置

    出願日
    2016年3月3日
    登録番号
    6662998
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. プラズマ処理装置

    出願日
    2016年3月3日
    登録番号
    6662998
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 薄膜形成装置に用いる基盤トレイ

    出願日
    2016年3月3日
    登録番号
    6445735
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. プラズマ処理装置

    出願日
    2016年3月3日
    登録番号
    6662998
    技術分野
    他に分類されない電気技術
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. プラズマ処理装置

    出願日
    2016年3月3日
    登録番号
    6543406
    技術分野
    他に分類されない電気技術
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. プラズマ処理装置

    出願日
    2016年3月3日
    登録番号
    6662998
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. プラズマ処理装置

    出願日
    2016年3月3日
    登録番号
    6543406
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. 薄膜形成装置に用いる基盤トレイ

    出願日
    2016年3月3日
    登録番号
    6445735
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）