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株式会社オカモトオプティクス

特許 全28件

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全28件 （1〜28件目を表示）

  1. 多孔性薄膜

    出願日
    2018年7月31日
    登録番号
    7410498
    技術分野
    積層体
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 薄膜の形成方法及び多孔性薄膜

    出願日
    2018年7月31日
    登録番号
    7157976
    技術分野
    光学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 多孔性薄膜

    出願日
    2018年7月31日
    登録番号
    7410498
    技術分野
    積層体
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 多孔性薄膜

    出願日
    2018年7月31日
    登録番号
    7410498
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 薄膜の形成方法及び多孔性薄膜

    出願日
    2018年7月31日
    登録番号
    7157976
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 多孔性薄膜

    出願日
    2018年7月31日
    登録番号
    7410498
    技術分野
    光学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 多孔性薄膜

    出願日
    2018年7月31日
    登録番号
    7410498
    技術分野
    積層体
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 多孔性薄膜

    出願日
    2018年7月31日
    登録番号
    7410498
    技術分野
    積層体
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 多孔性薄膜

    出願日
    2018年7月31日
    登録番号
    7410498
    技術分野
    積層体
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. 多孔性薄膜

    出願日
    2018年7月31日
    登録番号
    7410498
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. 多孔性薄膜

    出願日
    2018年7月31日
    登録番号
    7410498
    技術分野
    光学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. レーザ発生装置

    出願日
    2018年7月5日
    登録番号
    7054656
    技術分野
    光学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  13. レーザ発生装置

    出願日
    2018年7月5日
    登録番号
    7054656
    技術分野
    光学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  14. レーザ発生装置

    出願日
    2018年7月5日
    登録番号
    7054656
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  15. 薄膜の形成方法及び光学素子

    出願日
    2017年9月27日
    登録番号
    7041424
    技術分野
    積層体
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  16. 薄膜の形成方法及び光学素子

    出願日
    2017年9月27日
    登録番号
    7041424
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  17. 薄膜の形成方法及び光学素子

    出願日
    2017年9月27日
    登録番号
    7041424
    技術分野
    光学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  18. 薄膜の形成方法及び光学素子

    出願日
    2017年9月27日
    登録番号
    7041424
    技術分野
    積層体
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  19. 薄膜の形成方法及び光学素子

    出願日
    2017年9月27日
    登録番号
    7041424
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  20. ２波長同時発振型赤外光パラメトリック発振装置

    出願日
    2016年8月22日
    登録番号
    6966042
    技術分野
    光学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  21. ２波長同時発振型赤外光パラメトリック発振装置

    出願日
    2016年8月22日
    登録番号
    6966042
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  22. ２波長同時発振型赤外光パラメトリック発振装置

    出願日
    2016年8月22日
    登録番号
    6966042
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  23. 薄膜の形成方法、多孔性薄膜及び光学素子

    出願日
    2014年10月2日
    登録番号
    6358914
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  24. 薄膜の形成方法、多孔性薄膜及び光学素子

    出願日
    2014年10月2日
    登録番号
    6358914
    技術分野
    ガラス；鉱物またはスラグウール
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  25. 薄膜の形成方法、多孔性薄膜及び光学素子

    出願日
    2014年10月2日
    登録番号
    6358914
    技術分野
    光学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  26. 薄膜の形成方法、多孔性薄膜及び光学素子

    出願日
    2014年10月2日
    登録番号
    6358914
    技術分野
    ガラス；鉱物またはスラグウール
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  27. 薄膜の形成方法、多孔性薄膜及び光学素子

    出願日
    2014年10月2日
    登録番号
    6358914
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  28. 薄膜の形成方法、多孔性薄膜及び光学素子

    出願日
    2014年10月2日
    登録番号
    6358914
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）