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1. 成膜装置及びこれに用いられる材料供給装置

   出願日

   2023年5月18日

   登録番号

   7430961

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

2. 反射防止膜

   出願日

   2023年1月30日

   登録番号

   7307420

   技術分野

   光学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

3. 反射防止膜

   出願日

   2023年1月30日

   登録番号

   7307420

   技術分野

   積層体

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

4. ケイ素と酸素を含有する薄膜

   出願日

   2022年11月11日

   登録番号

   7341584

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

5. ケイ素と酸素を含有する薄膜

   出願日

   2022年11月11日

   登録番号

   7341584

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

6. ケイ素と酸素を含有する薄膜

   出願日

   2022年11月11日

   登録番号

   7341584

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

7. ケイ素と酸素を含有する薄膜

   出願日

   2022年11月11日

   登録番号

   7341584

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

8. 成膜制御装置、成膜装置及び成膜方法

   出願日

   2021年11月8日

   登録番号

   7171092

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

9. 成膜制御装置、成膜装置及び成膜方法

   出願日

   2021年11月8日

   登録番号

   7171092

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

10. バイアス印加装置

    出願日

    2021年6月8日

    登録番号

    7017832

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

11. バイアス印加装置

    出願日

    2021年6月8日

    登録番号

    7017832

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

12. 成膜装置及びこれを用いた成膜方法

    出願日

    2021年4月13日

    登録番号

    7253207

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

13. 成膜装置

    出願日

    2021年1月22日

    登録番号

    7158065

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

14. 成膜装置

    出願日

    2021年1月22日

    登録番号

    7158065

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

15. 成膜装置

    出願日

    2020年11月13日

    登録番号

    6959680

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

16. 成膜装置

    出願日

    2020年11月13日

    登録番号

    6959680

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

17. 成膜方法及び成膜装置

    出願日

    2020年10月9日

    登録番号

    7045044

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

18. 成膜方法及び成膜装置

    出願日

    2020年10月9日

    登録番号

    7041933

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

19. 成膜方法及び成膜装置

    出願日

    2020年10月9日

    登録番号

    7045044

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

20. 成膜方法及び成膜装置

    出願日

    2020年10月9日

    登録番号

    7041933

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

21. 移載装置及びこれを用いた成膜装置

    出願日

    2020年7月30日

    登録番号

    6868929

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

22. 移載装置及びこれを用いた成膜装置

    出願日

    2020年7月30日

    登録番号

    6868929

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

23. 移載装置及びこれを用いた成膜装置

    出願日

    2020年7月30日

    登録番号

    6868929

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

24. 移載装置及びこれを用いた成膜装置

    出願日

    2020年7月30日

    登録番号

    6868929

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

25. 成膜装置

    出願日

    2020年6月24日

    登録番号

    7108347

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

26. 成膜装置

    出願日

    2020年6月24日

    登録番号

    7108347

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

27. 摩耗試験装置の較正方法及び摩耗試験装置

    出願日

    2020年5月12日

    登録番号

    7215744

    技術分野

    測定；試験

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

28. スパッタ装置及びこれを用いた成膜方法

    出願日

    2020年4月1日

    登録番号

    7111380

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

29. スパッタ装置及びこれを用いた成膜方法

    出願日

    2020年4月1日

    登録番号

    7111380

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

30. スパッタ装置及びこれを用いた成膜方法

    出願日

    2020年4月1日

    登録番号

    7111380

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）