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株式会社ビッグ・ツリー

特許 全6件

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全6件 （1〜6件目を表示）

  1. エピタキシャル成長装置及びエピタキシャル成長方法

    出願日
    2017年4月27日
    登録番号
    6867221
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. エピタキシャル成長装置及びエピタキシャル成長方法

    出願日
    2017年4月27日
    登録番号
    6867221
    技術分野
    結晶成長
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. エピタキシャル成長装置及びエピタキシャル成長方法

    出願日
    2017年4月27日
    登録番号
    6867221
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. エピタキシャル成長装置及びエピタキシャル成長方法

    出願日
    2017年4月27日
    登録番号
    6867221
    技術分野
    結晶成長
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. エピタキシャル成長装置及びエピタキシャル成長方法

    出願日
    2017年4月27日
    登録番号
    6867221
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. エピタキシャル成長装置及びエピタキシャル成長方法

    出願日
    2017年4月27日
    登録番号
    6867221
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）