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株式会社クラフト

特許 全8件

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全8件 （1〜8件目を表示）

  1. 膜厚調整装置及び加飾容器の製造方法

    出願日
    2022年12月27日
    登録番号
    7437090
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 膜厚調整装置及び加飾容器の製造方法

    出願日
    2022年12月27日
    登録番号
    7330572
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 膜厚調整装置及び加飾容器の製造方法

    出願日
    2022年12月27日
    登録番号
    7330572
    技術分野
    運搬；包装；貯蔵；薄板状または線条材料の取扱い
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 膜厚調整装置及び加飾容器の製造方法

    出願日
    2022年12月27日
    登録番号
    7330572
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. スパッタリング装置

    出願日
    2018年4月5日
    登録番号
    6570016
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. スパッタリングターゲット

    出願日
    2015年4月6日
    登録番号
    6014818
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. スパッタリングターゲット

    出願日
    2015年4月6日
    登録番号
    6014818
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. スパッタリングターゲット

    出願日
    2015年4月6日
    登録番号
    6014818
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）