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株式会社アヤボ

特許 全18件

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全18件 （1〜18件目を表示）

  1. 光触媒電極

    出願日
    2018年12月28日
    登録番号
    7174378
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 光触媒電極

    出願日
    2018年12月28日
    登録番号
    7174378
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 光触媒電極

    出願日
    2018年12月28日
    登録番号
    7174378
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 光触媒電極

    出願日
    2018年12月28日
    登録番号
    7174378
    技術分野
    電気分解または電気泳動方法；そのための装置
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 光触媒電極

    出願日
    2018年12月28日
    登録番号
    7174378
    技術分野
    電気分解または電気泳動方法；そのための装置
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 光触媒電極

    出願日
    2018年12月28日
    登録番号
    7174378
    技術分野
    電気分解または電気泳動方法；そのための装置
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 光触媒電極

    出願日
    2018年12月28日
    登録番号
    7174378
    技術分野
    電気分解または電気泳動方法；そのための装置
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 光触媒電極

    出願日
    2018年12月28日
    登録番号
    7174378
    技術分野
    電気分解または電気泳動方法；そのための装置
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 光触媒電極

    出願日
    2018年12月28日
    登録番号
    7174378
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. ナノクラスター分散液、ナノクラスター膜、ナノクラスター分散体、ナノクラスター分散液の製造方法およびナノクラスター分散液の製造装置

    出願日
    2016年8月12日
    登録番号
    6910029
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. ナノクラスター分散液、ナノクラスター膜、ナノクラスター分散体、ナノクラスター分散液の製造方法およびナノクラスター分散液の製造装置

    出願日
    2016年8月12日
    登録番号
    6910029
    技術分野
    鋳造；粉末冶金
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. ナノクラスター分散液、ナノクラスター膜、ナノクラスター分散体、ナノクラスター分散液の製造方法およびナノクラスター分散液の製造装置

    出願日
    2016年8月12日
    登録番号
    6910029
    技術分野
    ナノテクノロジー
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  13. ナノクラスター分散液、ナノクラスター膜、ナノクラスター分散体、ナノクラスター分散液の製造方法およびナノクラスター分散液の製造装置

    出願日
    2016年8月12日
    登録番号
    6910029
    技術分野
    鋳造；粉末冶金
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  14. ナノクラスター分散液、ナノクラスター膜、ナノクラスター分散体、ナノクラスター分散液の製造方法およびナノクラスター分散液の製造装置

    出願日
    2016年8月12日
    登録番号
    6910029
    技術分野
    ナノテクノロジー
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  15. ナノクラスター分散液、ナノクラスター膜、ナノクラスター分散体、ナノクラスター分散液の製造方法およびナノクラスター分散液の製造装置

    出願日
    2016年8月12日
    登録番号
    6910029
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  16. 粒子計測方法および装置

    出願日
    2014年8月19日
    登録番号
    6608585
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  17. 粒子計測方法および装置

    出願日
    2014年8月19日
    登録番号
    6608585
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  18. 粒子計測方法および装置

    出願日
    2014年8月19日
    登録番号
    6608585
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）