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有限会社アルファシステム

特許 全15件

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全15件 （1〜15件目を表示）

  1. 半導体装置及びその製造方法

    出願日
    2019年9月18日
    登録番号
    7387106
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 半導体装置及びその製造方法

    出願日
    2019年9月18日
    登録番号
    7387106
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 半導体装置及びその製造方法

    出願日
    2019年9月18日
    登録番号
    7387106
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 半導体装置及びその製造方法

    出願日
    2019年9月18日
    登録番号
    7387106
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 半導体装置及びその製造方法

    出願日
    2019年9月18日
    登録番号
    7387106
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 半導体装置及びその製造方法

    出願日
    2019年9月18日
    登録番号
    7387106
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 半導体装置及びその製造方法

    出願日
    2019年9月18日
    登録番号
    7387106
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 半導体装置及びその製造方法

    出願日
    2019年9月18日
    登録番号
    7387106
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 半導体装置及びその製造方法

    出願日
    2019年9月18日
    登録番号
    7387106
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. 半導体装置及びその製造方法

    出願日
    2019年9月18日
    登録番号
    7387106
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. 半導体装置及びその製造方法

    出願日
    2019年9月18日
    登録番号
    7387106
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. 半導体装置及びその製造方法

    出願日
    2019年9月18日
    登録番号
    7387106
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  13. 半導体成膜装置及びその成膜方法並びにそれを用いた半導体装置の製造方法

    出願日
    2019年8月8日
    登録番号
    7420365
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  14. 半導体成膜装置及びその成膜方法並びにそれを用いた半導体装置の製造方法

    出願日
    2019年8月8日
    登録番号
    7420365
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  15. 半導体成膜装置及びその成膜方法並びにそれを用いた半導体装置の製造方法

    出願日
    2019年8月8日
    登録番号
    7420365
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）