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1. 成膜方法及び成膜装置

   出願日

   2020年9月4日

   登録番号

   7436333

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

2. 成膜方法及び成膜装置

   出願日

   2020年9月4日

   登録番号

   7436333

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

3. 成膜方法及び成膜装置

   出願日

   2020年9月4日

   登録番号

   7436333

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

4. 成膜方法及び成膜装置

   出願日

   2020年9月4日

   登録番号

   7436333

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

5. 成膜方法及び成膜装置

   出願日

   2020年9月4日

   登録番号

   7436333

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

6. 学習装置、学習方法、推定装置、推定方法及びプログラム

   出願日

   2020年8月27日

   登録番号

   7424587

   技術分野

   楽器；音響

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

7. 金属膜形成方法

   出願日

   2019年9月2日

   登録番号

   7261410

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

8. 金属膜形成方法

   出願日

   2019年9月2日

   登録番号

   7261410

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

9. 金属膜形成方法

   出願日

   2019年9月2日

   登録番号

   7261410

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

10. 金属膜形成方法

    出願日

    2019年9月2日

    登録番号

    7261410

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

11. 結晶性酸化物膜

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7306640

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

12. 積層構造体の製造方法

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7045014

    技術分野

    結晶成長

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

13. 結晶性酸化物膜

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7306640

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

14. 結晶性酸化物膜

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7306640

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

15. 結晶性酸化物膜

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7306640

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

16. 積層構造体の製造方法

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7045014

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

17. 結晶性酸化物膜

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7306640

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

18. 積層構造体の製造方法

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7045014

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

19. 結晶性酸化物膜

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7306640

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

20. 結晶性酸化物膜

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7306640

    技術分野

    結晶成長

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

21. 積層構造体の製造方法

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7045014

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

22. 積層構造体の製造方法

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7045014

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

23. 積層構造体の製造方法

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7045014

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

24. ニューラルネットワーク処理装置、コンピュータプログラム、ニューラルネットワーク製造方法、ニューラルネットワークデータの製造方法、ニューラルネットワーク利用装置、及びニューラルネットワーク小規模化方法

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7438544

    技術分野

    計算または計数

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

25. 積層構造体の製造方法

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7045014

    技術分野

    結晶成長

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

26. 結晶性酸化物膜

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7306640

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

27. 結晶性酸化物膜

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7306640

    技術分野

    結晶成長

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

28. 結晶性酸化物膜

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7306640

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

29. 積層構造体の製造方法

    出願日

    2019年8月28日

    登録番号

    7045014

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

30. 予測装置、予測方法及び予測プログラム

    出願日

    2019年8月13日

    登録番号

    7306626

    技術分野

    楽器；音響

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）