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株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

特許 全6884件

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全6884件 （1〜30件目を表示）

  1. 基板処理装置

    出願日
    2023年6月13日
    登録番号
    7470847
    技術分野
    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 基板処理装置

    出願日
    2023年6月13日
    登録番号
    7470847
    技術分野
    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 基板処理装置

    出願日
    2023年6月13日
    登録番号
    7470847
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年9月22日
    登録番号
    7470759
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年9月22日
    登録番号
    7470759
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 塗布装置

    出願日
    2022年8月24日
    登録番号
    7470749
    技術分野
    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 塗布装置

    出願日
    2022年8月24日
    登録番号
    7470749
    技術分野
    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 塗布装置

    出願日
    2022年8月24日
    登録番号
    7470749
    技術分野
    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年7月11日
    登録番号
    7470742
    技術分野
    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年7月11日
    登録番号
    7470742
    技術分野
    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年7月11日
    登録番号
    7470742
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年7月11日
    登録番号
    7470742
    技術分野
    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  13. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年7月11日
    登録番号
    7470742
    技術分野
    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  14. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年7月11日
    登録番号
    7470742
    技術分野
    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  15. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年7月11日
    登録番号
    7470742
    技術分野
    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  16. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年7月11日
    登録番号
    7470742
    技術分野
    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  17. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年7月11日
    登録番号
    7470742
    技術分野
    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  18. 基板処理装置、基板処理装置の制御方法

    出願日
    2022年6月20日
    登録番号
    7485728
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  19. 基板処理装置、基板処理装置の制御方法

    出願日
    2022年6月20日
    登録番号
    7485728
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  20. 基板処理装置、基板処理装置の制御方法

    出願日
    2022年6月20日
    登録番号
    7485728
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  21. 基板処理装置、基板処理装置の制御方法

    出願日
    2022年6月20日
    登録番号
    7485728
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  22. 基板処理装置、基板処理装置の制御方法

    出願日
    2022年6月20日
    登録番号
    7485728
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  23. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年3月23日
    登録番号
    7405889
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  24. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年3月23日
    登録番号
    7405889
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  25. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年3月23日
    登録番号
    7405889
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  26. 現像装置

    出願日
    2022年3月22日
    登録番号
    7369227
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  27. 現像装置

    出願日
    2022年3月22日
    登録番号
    7369227
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  28. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年3月3日
    登録番号
    7350114
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  29. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年3月3日
    登録番号
    7350114
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  30. 基板処理装置および基板処理方法

    出願日
    2022年3月3日
    登録番号
    7350114
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）