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株式会社ミライズテクノロジーズ

特許 全67件

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全67件 （1〜30件目を表示）

  1. 酸化ガリウム系半導体基板の表面処理方法および半導体装置

    出願日
    2021年9月13日
    登録番号
    7461325
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 酸化ガリウム系半導体基板の表面処理方法および半導体装置

    出願日
    2021年9月13日
    登録番号
    7461325
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 酸化ガリウム系半導体基板の表面処理方法および半導体装置

    出願日
    2021年9月13日
    登録番号
    7461325
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 酸化ガリウム系半導体基板の表面処理方法および半導体装置

    出願日
    2021年9月13日
    登録番号
    7461325
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 酸化ガリウム系半導体基板の表面処理方法および半導体装置

    出願日
    2021年9月13日
    登録番号
    7461325
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 酸化ガリウム系半導体基板の表面処理方法および半導体装置

    出願日
    2021年9月13日
    登録番号
    7461325
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 酸化ガリウム系半導体基板の表面処理方法および半導体装置

    出願日
    2021年9月13日
    登録番号
    7461325
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 酸化ガリウム系半導体基板の表面処理方法および半導体装置

    出願日
    2021年9月13日
    登録番号
    7461325
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 酸化ガリウム系半導体基板の表面処理方法および半導体装置

    出願日
    2021年9月13日
    登録番号
    7461325
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. ゲート駆動装置

    出願日
    2021年7月16日
    登録番号
    7488226
    技術分野
    電力の発電，変換，配電
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. 死角補助装置

    出願日
    2021年6月22日
    登録番号
    7469261
    技術分野
    光学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. 死角補助装置

    出願日
    2021年6月22日
    登録番号
    7469261
    技術分野
    光学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  13. 死角補助装置

    出願日
    2021年6月22日
    登録番号
    7469261
    技術分野
    車両一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  14. 外景導光光学装置

    出願日
    2021年6月21日
    登録番号
    7481297
    技術分野
    車両一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  15. 慣性センサおよびその製造方法

    出願日
    2021年5月21日
    登録番号
    7452492
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  16. 慣性センサ

    出願日
    2021年3月30日
    登録番号
    7456412
    技術分野
    マイクロ構造技術
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  17. 慣性センサ

    出願日
    2021年3月30日
    登録番号
    7456412
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  18. 慣性センサ

    出願日
    2021年3月30日
    登録番号
    7456412
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  19. 慣性センサ

    出願日
    2021年3月30日
    登録番号
    7456412
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  20. 半導体装置およびその製造方法

    出願日
    2021年3月23日
    登録番号
    7481285
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  21. 半導体装置およびその製造方法

    出願日
    2021年3月23日
    登録番号
    7481285
    技術分野
    工作機械；他に分類されない金属加工
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  22. 半導体装置およびその製造方法

    出願日
    2021年3月23日
    登録番号
    7481285
    技術分野
    冶金；鉄または非鉄合金；合金の処理または非鉄金属の処理
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  23. 半導体装置およびその製造方法

    出願日
    2021年3月23日
    登録番号
    7481285
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  24. 半導体装置およびその製造方法

    出願日
    2021年3月23日
    登録番号
    7481285
    技術分野
    工作機械；他に分類されない金属加工
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  25. 金属製品

    出願日
    2021年3月3日
    登録番号
    7476823
    技術分野
    燃焼機関；熱ガスまたは燃焼生成物を利用する機関設備
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  26. 金属製品

    出願日
    2021年3月3日
    登録番号
    7476823
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  27. 金属製品

    出願日
    2021年3月3日
    登録番号
    7476823
    技術分野
    積層体
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  28. 金属製品

    出願日
    2021年3月3日
    登録番号
    7476823
    技術分野
    燃焼機関；熱ガスまたは燃焼生成物を利用する機関設備
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  29. 半導体装置の製造方法

    出願日
    2021年2月12日
    登録番号
    7420756
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  30. 半導体装置の製造方法

    出願日
    2021年2月12日
    登録番号
    7420756
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）