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株式会社セルバック

特許 全10件

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全10件 （1〜10件目を表示）

  1. 成膜方法および成膜装置

    出願日
    2018年7月10日
    登録番号
    7129082
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 成膜方法および成膜装置

    出願日
    2018年7月10日
    登録番号
    7129082
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 成膜方法および成膜装置

    出願日
    2018年7月10日
    登録番号
    7129082
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 成膜方法および成膜装置

    出願日
    2018年7月10日
    登録番号
    7129082
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 成膜方法および成膜装置

    出願日
    2018年7月10日
    登録番号
    7129082
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 接合装置

    出願日
    2017年6月30日
    登録番号
    6867686
    技術分野
    工作機械；他に分類されない金属加工
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 接合装置

    出願日
    2017年6月30日
    登録番号
    6867686
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 接合装置

    出願日
    2017年6月30日
    登録番号
    6867686
    技術分野
    工作機械；他に分類されない金属加工
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 成膜装置

    出願日
    2015年9月9日
    登録番号
    6167345
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. 成膜装置

    出願日
    2015年9月9日
    登録番号
    6167345
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）