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株式会社セイワマシン

特許 全8件

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全8件 （1〜8件目を表示）

  1. スラリー流動化装置

    出願日
    2019年2月19日
    登録番号
    7371835
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. スラリー流動化装置

    出願日
    2019年2月19日
    登録番号
    7371835
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. スラリー流動化装置

    出願日
    2019年2月19日
    登録番号
    7371835
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. スラリー流動化装置

    出願日
    2019年2月19日
    登録番号
    7371835
    技術分野
    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. スラリー流動化装置

    出願日
    2019年2月19日
    登録番号
    7371835
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. スラリー流動化装置

    出願日
    2019年2月19日
    登録番号
    7371835
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 微粒子含有スラリー溶射装置及び該溶射システム

    出願日
    2017年3月29日
    登録番号
    6955744
    技術分野
    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 微粒子含有スラリー溶射装置及び該溶射システム

    出願日
    2017年3月29日
    登録番号
    6955744
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）