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コミヤマエレクトロン株式会社

特許 全21件

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全21件 （1〜21件目を表示）

  1. 真空チャンバ部材及び真空チャンバ装置

    出願日
    2020年7月13日
    登録番号
    7475661
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 真空チャンバ部材及び真空チャンバ装置

    出願日
    2020年6月15日
    登録番号
    7456613
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 真空チャンバ部材及び真空チャンバ装置

    出願日
    2020年6月15日
    登録番号
    7456613
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 真空チャンバ部材及び真空チャンバ装置

    出願日
    2020年6月15日
    登録番号
    7456613
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 積層体

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7317421
    技術分野
    積層体
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 積層体

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7317421
    技術分野
    積層体
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 樹脂表面親水化方法、プラズマ処理装置、および積層体の製造方法

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7270974
    技術分野
    有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 樹脂表面親水化方法、プラズマ処理装置、および積層体の製造方法

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7270974
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 積層体

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7317421
    技術分野
    有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. 積層体

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7317421
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. 積層体

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7317421
    技術分野
    有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. 樹脂表面親水化方法、プラズマ処理装置、および積層体の製造方法

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7270974
    技術分野
    有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  13. 樹脂表面親水化方法、プラズマ処理装置、および積層体の製造方法

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7270974
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  14. 積層体

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7317421
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  15. 積層体

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7317421
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  16. 樹脂表面親水化方法、プラズマ処理装置、および積層体の製造方法

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7270974
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  17. 樹脂表面親水化方法、プラズマ処理装置、および積層体の製造方法

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7270974
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  18. 積層体

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7317421
    技術分野
    有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  19. 樹脂表面親水化方法、プラズマ処理装置、および積層体の製造方法

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7270974
    技術分野
    有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  20. 樹脂表面親水化方法、プラズマ処理装置、および積層体の製造方法

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7270974
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  21. 樹脂表面親水化方法、プラズマ処理装置、および積層体の製造方法

    出願日
    2019年8月10日
    登録番号
    7270974
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）