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三益半導体工業株式会社

特許 全85件

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全85件 (1〜30件目を表示)

  1. 処理液回収機構付ウェーハ表面処理装置及びウェーハ表面処理方法

    出願日
    2022年1月13日
    登録番号
    7330307
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  2. 処理液回収機構付ウェーハ表面処理装置及びウェーハ表面処理方法

    出願日
    2022年1月13日
    登録番号
    7330307
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  3. 処理液回収機構付ウェーハ表面処理装置及びウェーハ表面処理方法

    出願日
    2022年1月13日
    登録番号
    7330307
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  4. 処理液回収機構付ウェーハ表面処理装置及びウェーハ表面処理方法

    出願日
    2022年1月13日
    登録番号
    7330307
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  5. 処理液回収機構付ウェーハ表面処理装置及びウェーハ表面処理方法

    出願日
    2022年1月13日
    登録番号
    7330307
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  6. 処理液回収機構付ウェーハ表面処理装置及びウェーハ表面処理方法

    出願日
    2022年1月13日
    登録番号
    7330307
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  7. 処理液回収機構付ウェーハ表面処理装置及びウェーハ表面処理方法

    出願日
    2022年1月13日
    登録番号
    7330307
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  8. ウェーハ及びウェーハ積層体兼用のウェーハ保持構造並びに保持方法

    出願日
    2021年11月9日
    登録番号
    7376555
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  9. ウェーハ及びウェーハ積層体兼用のウェーハ保持構造並びに保持方法

    出願日
    2021年11月9日
    登録番号
    7376555
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  10. スピンエッチング装置用ポンプフィルターの再生システム及び再生方法

    出願日
    2021年10月27日
    登録番号
    7364641
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  11. スピンエッチング装置用ポンプフィルターの再生システム及び再生方法

    出願日
    2021年10月27日
    登録番号
    7364641
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  12. スピンエッチング装置用ポンプフィルターの再生システム及び再生方法

    出願日
    2021年10月27日
    登録番号
    7364641
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  13. スピンエッチング装置用ポンプフィルターの再生システム及び再生方法

    出願日
    2021年10月27日
    登録番号
    7364641
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  14. エピタキシャルウェーハの洗浄方法

    出願日
    2020年10月28日
    登録番号
    7300433
    技術分野
    結晶成長
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  15. エピタキシャルウェーハの洗浄方法

    出願日
    2020年10月28日
    登録番号
    7300433
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  16. エピタキシャルウェーハの洗浄方法

    出願日
    2020年10月28日
    登録番号
    7300433
    技術分野
    結晶成長
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  17. エピタキシャルウェーハの洗浄方法

    出願日
    2020年10月28日
    登録番号
    7300433
    技術分野
    結晶成長
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  18. エピタキシャルウェーハの洗浄方法

    出願日
    2020年10月28日
    登録番号
    7300433
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  19. エピタキシャルウェーハの洗浄方法

    出願日
    2020年10月28日
    登録番号
    7300433
    技術分野
    金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  20. エピタキシャルウェーハの洗浄方法

    出願日
    2020年10月28日
    登録番号
    7300433
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  21. 搬送ヘッドおよび搬送装置

    出願日
    2019年11月6日
    登録番号
    7352168
    技術分野
    研削;研磨
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  22. 搬送ヘッドおよび搬送装置

    出願日
    2019年11月6日
    登録番号
    7352168
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  23. 搬送ヘッドおよび搬送装置

    出願日
    2019年11月6日
    登録番号
    7352168
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  24. 搬送ヘッドおよび搬送装置

    出願日
    2019年11月6日
    登録番号
    7352168
    技術分野
    研削;研磨
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  25. 搬送ヘッドおよび搬送装置

    出願日
    2019年11月6日
    登録番号
    7352168
    技術分野
    工作機械;他に分類されない金属加工
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  26. 搬送ヘッドおよび搬送装置

    出願日
    2019年11月6日
    登録番号
    7352168
    技術分野
    工作機械;他に分類されない金属加工
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  27. 搬送ヘッドおよび搬送装置

    出願日
    2019年11月6日
    登録番号
    7352168
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  28. 搬送方法および搬送装置

    出願日
    2019年10月11日
    登録番号
    7430872
    技術分野
    研削;研磨
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  29. 搬送方法および搬送装置

    出願日
    2019年10月11日
    登録番号
    7430872
    技術分野
    研削;研磨
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  30. 搬送方法および搬送装置

    出願日
    2019年10月11日
    登録番号
    7430872
    技術分野
    研削;研磨
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)