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泉工業株式会社

特許 全15件

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全15件 (1〜15件目を表示)

  1. チューブの表面処理装置及びプラズマ処理装置

    出願日
    2017年10月25日
    登録番号
    7001258
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  2. チューブの表面処理装置及びプラズマ処理装置

    出願日
    2017年10月25日
    登録番号
    7001258
    技術分野
    他に分類されない電気技術
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  3. チューブの表面処理装置及びプラズマ処理装置

    出願日
    2017年10月25日
    登録番号
    7001258
    技術分野
    プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  4. 容器の内壁処理方法及び容器の内壁処理装置

    出願日
    2014年11月10日
    登録番号
    6402325
    技術分野
    有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  5. 容器の内壁処理方法及び容器の内壁処理装置

    出願日
    2014年11月10日
    登録番号
    5785650
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  6. 容器の内壁処理方法及び容器の内壁処理装置

    出願日
    2014年11月10日
    登録番号
    5785650
    技術分野
    有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  7. 容器の内壁処理方法及び容器の内壁処理装置

    出願日
    2014年11月10日
    登録番号
    5785650
    技術分野
    有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  8. 容器の内壁処理方法及び容器の内壁処理装置

    出願日
    2014年11月10日
    登録番号
    5785650
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  9. 容器の内壁処理方法及び容器の内壁処理装置

    出願日
    2014年11月10日
    登録番号
    5785650
    技術分野
    有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  10. 容器の内壁処理方法及び容器の内壁処理装置

    出願日
    2014年11月10日
    登録番号
    6402325
    技術分野
    有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  11. 容器の内壁処理方法及び容器の内壁処理装置

    出願日
    2014年11月10日
    登録番号
    5785650
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  12. 容器の内壁処理方法及び容器の内壁処理装置

    出願日
    2014年11月10日
    登録番号
    6402325
    技術分野
    有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  13. 容器の内壁処理方法及び容器の内壁処理装置

    出願日
    2014年11月10日
    登録番号
    5785650
    技術分野
    プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  14. 容器の内壁処理方法及び容器の内壁処理装置

    出願日
    2014年11月10日
    登録番号
    6402325
    技術分野
    有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  15. 容器の内壁処理方法及び容器の内壁処理装置

    出願日
    2014年11月10日
    登録番号
    5785650
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)