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株式会社ナノフォトニックテクノロジーズ

特許 全9件

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全9件 （1〜9件目を表示）

  1. 表面平坦化方法及び微細構造体の製造方法

    出願日
    2017年1月25日
    登録番号
    6961201
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 表面平坦化方法及び微細構造体の製造方法

    出願日
    2017年1月25日
    登録番号
    6961201
    技術分野
    ガラス；鉱物またはスラグウール
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 表面平坦化方法

    出願日
    2015年3月12日
    登録番号
    6560510
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 表面平坦化方法

    出願日
    2015年3月12日
    登録番号
    6560510
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 表面平坦化方法

    出願日
    2015年3月12日
    登録番号
    6560510
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 表面平坦化方法

    出願日
    2015年3月12日
    登録番号
    6560510
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 表面平坦化方法及び表面平坦化システム

    出願日
    2014年2月26日
    登録番号
    6291285
    技術分野
    ガラス；鉱物またはスラグウール
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 表面平坦化方法及び表面平坦化システム

    出願日
    2014年2月26日
    登録番号
    6291285
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 表面平坦化方法及び表面平坦化システム

    出願日
    2014年2月26日
    登録番号
    6291285
    技術分野
    ナノテクノロジー
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）