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1. 変倍光学系および光学機器

   出願日

   2022年2月17日

   登録番号

   7464191

   技術分野

   光学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

2. 変倍光学系および光学機器

   出願日

   2022年2月17日

   登録番号

   7464191

   技術分野

   光学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

3. 光学系および光学機器

   出願日

   2022年1月21日

   登録番号

   7459981

   技術分野

   光学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

4. 光学系および光学機器

   出願日

   2022年1月21日

   登録番号

   7459981

   技術分野

   光学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

5. 顕微鏡対物レンズ、顕微鏡光学系、および顕微鏡装置

   出願日

   2021年12月15日

   登録番号

   7414156

   技術分野

   光学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

6. 顕微鏡対物レンズ、顕微鏡光学系、および顕微鏡装置

   出願日

   2021年12月15日

   登録番号

   7414156

   技術分野

   光学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

7. 顕微鏡対物レンズおよび顕微鏡装置

   出願日

   2021年10月7日

   登録番号

   7468686

   技術分野

   光学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

8. 顕微鏡対物レンズおよび顕微鏡装置

   出願日

   2021年10月7日

   登録番号

   7468686

   技術分野

   光学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

9. 光学系および光学機器

   出願日

   2021年10月4日

   登録番号

   7459968

   技術分野

   光学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

10. 光学系および光学機器

    出願日

    2021年10月4日

    登録番号

    7459968

    技術分野

    光学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

11. 顕微鏡装置、顕微鏡装置の試料屈折率測定方法、および顕微鏡装置の試料屈折率測定プログラム

    出願日

    2021年8月25日

    登録番号

    7380906

    技術分野

    光学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

12. 顕微鏡装置、顕微鏡装置の試料屈折率測定方法、および顕微鏡装置の試料屈折率測定プログラム

    出願日

    2021年8月25日

    登録番号

    7380906

    技術分野

    光学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

13. 顕微鏡装置、顕微鏡装置の試料屈折率測定方法、および顕微鏡装置の試料屈折率測定プログラム

    出願日

    2021年8月25日

    登録番号

    7380906

    技術分野

    光学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

14. パターン描画装置用の検査装置

    出願日

    2021年8月20日

    登録番号

    7400985

    技術分野

    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

15. パターン描画装置用の検査装置

    出願日

    2021年8月20日

    登録番号

    7400985

    技術分野

    光学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

16. パターン描画装置用の検査装置

    出願日

    2021年8月20日

    登録番号

    7400985

    技術分野

    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

17. 成膜装置、ミスト成膜装置、および導電膜の製造方法

    出願日

    2021年7月27日

    登録番号

    7485047

    技術分野

    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

18. 成膜装置、ミスト成膜装置、および導電膜の製造方法

    出願日

    2021年7月27日

    登録番号

    7485047

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

19. 成膜装置、ミスト成膜装置、および導電膜の製造方法

    出願日

    2021年7月27日

    登録番号

    7485047

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

20. 成膜装置、ミスト成膜装置、および導電膜の製造方法

    出願日

    2021年7月27日

    登録番号

    7485047

    技術分野

    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

21. 成膜装置、ミスト成膜装置、および導電膜の製造方法

    出願日

    2021年7月27日

    登録番号

    7485047

    技術分野

    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

22. 成膜装置、ミスト成膜装置、および導電膜の製造方法

    出願日

    2021年7月27日

    登録番号

    7485047

    技術分野

    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

23. 変倍光学系および光学機器

    出願日

    2021年6月25日

    登録番号

    7364084

    技術分野

    光学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

24. 変倍光学系および光学機器

    出願日

    2021年6月25日

    登録番号

    7409511

    技術分野

    光学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

25. 変倍光学系および光学機器

    出願日

    2021年6月25日

    登録番号

    7364084

    技術分野

    光学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

26. 変倍光学系および光学機器

    出願日

    2021年6月25日

    登録番号

    7409511

    技術分野

    光学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

27. 遊走性算出装置、遊走性評価方法およびコンピュータに遊走性評価方法を実行させるコンピュータプログラム

    出願日

    2021年6月22日

    登録番号

    7464123

    技術分野

    生化学；ビール；酒精；ぶどう酒；酢；微生物学；酵素学；突然変異または遺伝子工学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

28. 遊走性算出装置、遊走性評価方法およびコンピュータに遊走性評価方法を実行させるコンピュータプログラム

    出願日

    2021年6月22日

    登録番号

    7464123

    技術分野

    計算または計数

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

29. 遊走性算出装置、遊走性評価方法およびコンピュータに遊走性評価方法を実行させるコンピュータプログラム

    出願日

    2021年6月22日

    登録番号

    7464123

    技術分野

    生化学；ビール；酒精；ぶどう酒；酢；微生物学；酵素学；突然変異または遺伝子工学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

30. レンズ鏡筒及び撮像装置

    出願日

    2021年5月26日

    登録番号

    7380876

    技術分野

    電気通信技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）