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株式会社エスケーエレクトロニクス

特許 全118件

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全118件 （1〜30件目を表示）

  1. フォトマスクの製造方法

    出願日
    2023年4月10日
    登録番号
    7450784
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. フォトマスクの製造方法

    出願日
    2023年2月27日
    登録番号
    7393573
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. パターン修正方法

    出願日
    2021年8月4日
    登録番号
    7489359
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. パターン修正方法

    出願日
    2021年8月4日
    登録番号
    7489359
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. パターン修正方法

    出願日
    2021年8月4日
    登録番号
    7489359
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. パターン修正方法

    出願日
    2021年8月4日
    登録番号
    7489358
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. パターン修正方法

    出願日
    2021年8月4日
    登録番号
    7489358
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. パターン修正方法

    出願日
    2021年8月4日
    登録番号
    7489359
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. パターン修正方法

    出願日
    2021年8月4日
    登録番号
    7489358
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. パターン修正方法

    出願日
    2021年8月4日
    登録番号
    7489358
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. フォトマスク、フォトマスクの製造方法、表示装置の製造方法

    出願日
    2021年6月4日
    登録番号
    6993530
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. フォトマスク、フォトマスクの製造方法、表示装置の製造方法

    出願日
    2021年6月4日
    登録番号
    6993530
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  13. フォトマスク、フォトマスクの製造方法、表示装置の製造方法

    出願日
    2021年6月4日
    登録番号
    6993530
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  14. フォトマスク、フォトマスクの製造方法、表示装置の製造方法

    出願日
    2021年6月4日
    登録番号
    6993530
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  15. フォトマスク及びその製造方法

    出願日
    2020年10月14日
    登録番号
    7174826
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  16. フォトマスク及びその製造方法

    出願日
    2020年10月14日
    登録番号
    7174826
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  17. フォトマスク及びその製造方法

    出願日
    2020年10月14日
    登録番号
    7174826
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  18. フォトマスク及びその製造方法

    出願日
    2020年10月14日
    登録番号
    7174826
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  19. フォトマスク

    出願日
    2020年7月22日
    登録番号
    7399813
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  20. フォトマスク

    出願日
    2020年7月22日
    登録番号
    7399813
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  21. プロキシミティー露光用フォトマスク

    出願日
    2020年6月15日
    登録番号
    7475209
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  22. フォトマスクの修正方法

    出願日
    2020年5月25日
    登録番号
    7461220
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  23. フォトマスクの修正方法

    出願日
    2020年5月25日
    登録番号
    7461220
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  24. フォトマスクの修正方法

    出願日
    2020年5月25日
    登録番号
    7461220
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  25. フォトマスクの修正方法

    出願日
    2020年5月25日
    登録番号
    7461220
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  26. フォトマスクの修正方法

    出願日
    2020年5月25日
    登録番号
    7461220
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  27. フォトマスクの検査装置及び検査方法

    出願日
    2020年5月15日
    登録番号
    7449639
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  28. フォトマスクの検査装置及び検査方法

    出願日
    2020年5月15日
    登録番号
    7449639
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  29. フォトマスクの検査装置及び検査方法

    出願日
    2020年5月15日
    登録番号
    7449639
    技術分野
    計算または計数
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  30. フォトマスクの製造方法

    出願日
    2020年4月28日
    登録番号
    7461206
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）