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株式会社タナベ

特許 全11件

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全11件 （1〜11件目を表示）

  1. 水酸化リチウムの製造方法、及び水酸化リチウムの製造装置

    出願日
    2019年10月4日
    登録番号
    7319631
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 水酸化リチウムの製造方法、及び水酸化リチウムの製造装置

    出願日
    2019年10月4日
    登録番号
    7319631
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 水酸化リチウムの製造方法、及び水酸化リチウムの製造装置

    出願日
    2019年10月4日
    登録番号
    7319631
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 水酸化リチウムの製造方法、及び水酸化リチウムの製造装置

    出願日
    2019年10月4日
    登録番号
    7319631
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 水酸化リチウムの製造方法、及び水酸化リチウムの製造装置

    出願日
    2019年10月4日
    登録番号
    7319631
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 板材の洗浄装置

    出願日
    2017年9月29日
    登録番号
    6928522
    技術分野
    清掃
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 板材の洗浄装置

    出願日
    2017年9月29日
    登録番号
    6928522
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 水酸化リチウム無水和物の製造方法及びこれに用いるロータリーキルン

    出願日
    2016年11月1日
    登録番号
    6074540
    技術分野
    炉；キルン，窯（かま）またはレトルト
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 水酸化リチウム無水和物の製造方法及びこれに用いるロータリーキルン

    出願日
    2016年11月1日
    登録番号
    6074540
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. 水酸化リチウム無水和物の製造方法及びこれに用いるロータリーキルン

    出願日
    2016年11月1日
    登録番号
    6074540
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. 水酸化リチウム無水和物の製造方法及びこれに用いるロータリーキルン

    出願日
    2016年11月1日
    登録番号
    6074540
    技術分野
    炉；キルン，窯（かま）またはレトルト
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）