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ギガフォトン株式会社

特許 全658件

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全658件 (1〜30件目を表示)

  1. 極端紫外光生成システム、及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年7月30日
    登録番号
    7434096
    技術分野
    写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  2. 極端紫外光生成システム、及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年7月30日
    登録番号
    7434096
    技術分野
    他に分類されない電気技術
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  3. 訓練データ作成方法、機械学習方法、消耗品管理装置及びコンピュータ可読媒体

    出願日
    2020年7月20日
    登録番号
    7432733
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  4. 極端紫外光集光ミラー及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年6月29日
    登録番号
    7471156
    技術分野
    写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  5. 極端紫外光集光ミラー及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年6月29日
    登録番号
    7471156
    技術分野
    核物理;核工学
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  6. 極端紫外光集光ミラー及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年6月29日
    登録番号
    7471156
    技術分野
    他に分類されない電気技術
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  7. 極端紫外光集光ミラー及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年6月29日
    登録番号
    7471156
    技術分野
    写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  8. 極端紫外光集光ミラー及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年6月29日
    登録番号
    7471156
    技術分野
    核物理;核工学
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  9. 極端紫外光集光ミラー及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年6月29日
    登録番号
    7471156
    技術分野
    光学
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  10. 極端紫外光生成システム及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年6月26日
    登録番号
    7426299
    技術分野
    写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  11. 極端紫外光生成システム及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年6月26日
    登録番号
    7426299
    技術分野
    写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  12. 極端紫外光生成システム及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年6月26日
    登録番号
    7426299
    技術分野
    他に分類されない電気技術
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  13. レーザ装置及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年5月27日
    登録番号
    7482225
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  14. 極端紫外光生成装置、ターゲット制御方法、及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年5月11日
    登録番号
    7471906
    技術分野
    写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  15. 極端紫外光生成装置、ターゲット制御方法、及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年5月11日
    登録番号
    7471906
    技術分野
    他に分類されない電気技術
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  16. 極端紫外光生成装置、ターゲット制御方法、及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年5月11日
    登録番号
    7471906
    技術分野
    他に分類されない電気技術
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  17. センサ劣化判定方法

    出願日
    2020年3月27日
    登録番号
    7402313
    技術分野
    測定;試験
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  18. センサ劣化判定方法

    出願日
    2020年3月27日
    登録番号
    7402313
    技術分野
    測定;試験
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  19. レーザ装置及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年3月26日
    登録番号
    7475433
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  20. レーザ装置及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年3月26日
    登録番号
    7475433
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  21. レーザ装置及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年3月26日
    登録番号
    7475433
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  22. 露光システム、レーザ制御パラメータの作成方法、及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年3月19日
    登録番号
    7480275
    技術分野
    写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  23. 露光システム、レーザ制御パラメータの作成方法、及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年3月19日
    登録番号
    7454038
    技術分野
    写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  24. 露光システム及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年3月19日
    登録番号
    7461454
    技術分野
    写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  25. 露光システム、レーザ制御パラメータの作成方法、及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年3月19日
    登録番号
    7454038
    技術分野
    写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  26. 露光システム、レーザ制御パラメータの作成方法、及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年3月19日
    登録番号
    7480275
    技術分野
    写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  27. 露光システム、レーザ制御パラメータの作成方法、及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年3月19日
    登録番号
    7480275
    技術分野
    写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  28. 極端紫外光生成装置、極端紫外光生成システム、及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年3月18日
    登録番号
    7389691
    技術分野
    他に分類されない電気技術
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  29. 極端紫外光生成装置、極端紫外光生成システム、及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年3月18日
    登録番号
    7389691
    技術分野
    写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  30. 極端紫外光生成装置、極端紫外光生成システム、及び電子デバイスの製造方法

    出願日
    2020年3月18日
    登録番号
    7389691
    技術分野
    写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)