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リバストン工業株式会社

特許 全12件

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全12件 （1〜12件目を表示）

  1. 皮膜付き基材、プラズマエッチング装置用部品およびそれらの製造方法

    出願日
    2016年3月25日
    登録番号
    6005314
    技術分野
    積層体
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 皮膜付き基材、プラズマエッチング装置用部品およびそれらの製造方法

    出願日
    2016年3月25日
    登録番号
    6005314
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 皮膜付き基材、プラズマエッチング装置用部品およびそれらの製造方法

    出願日
    2016年3月25日
    登録番号
    6005314
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 皮膜付き基材、プラズマエッチング装置用部品およびそれらの製造方法

    出願日
    2016年3月25日
    登録番号
    6005314
    技術分野
    セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 皮膜付き基材、プラズマエッチング装置用部品およびそれらの製造方法

    出願日
    2016年3月25日
    登録番号
    6005314
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 皮膜付き基材、その製造方法、その皮膜付き基材を含む半導体製造装置部材

    出願日
    2014年11月8日
    登録番号
    5927656
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 皮膜付き基材、その製造方法、その皮膜付き基材を含む半導体製造装置部材

    出願日
    2014年11月8日
    登録番号
    5927656
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 皮膜付き基材、その製造方法、その皮膜付き基材を含む半導体製造装置部材

    出願日
    2014年11月8日
    登録番号
    5927656
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 皮膜付き基材、その製造方法、その皮膜付き基材を含む半導体製造装置部材

    出願日
    2014年11月8日
    登録番号
    5927656
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. 皮膜付き基材、その製造方法、その皮膜付き基材を含む半導体製造装置部材

    出願日
    2014年11月8日
    登録番号
    5927656
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. 皮膜付き基材およびその製造方法

    出願日
    2014年2月27日
    登録番号
    6302703
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. 皮膜付き基材およびその製造方法

    出願日
    2014年2月27日
    登録番号
    6302703
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）