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学校法人工学院大学

特許 全208件

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全208件 （121〜150件目を表示）

  1. レーザー装置およびその制御方法、質量分析装置

    出願日
    2017年2月24日
    登録番号
    6856197
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. レーザー装置およびその制御方法、質量分析装置

    出願日
    2017年2月24日
    登録番号
    6856197
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. レーザー装置およびその制御方法、質量分析装置

    出願日
    2017年2月24日
    登録番号
    6856197
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. レーザー装置およびその制御方法、質量分析装置

    出願日
    2017年2月24日
    登録番号
    6856197
    技術分野
    光学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. レーザー装置およびその制御方法、質量分析装置

    出願日
    2017年2月24日
    登録番号
    6856197
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. レーザー装置およびその制御方法、質量分析装置

    出願日
    2017年2月24日
    登録番号
    6856197
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. レーザー装置およびその制御方法、質量分析装置

    出願日
    2017年2月24日
    登録番号
    6856197
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. レーザー装置およびその制御方法、質量分析装置

    出願日
    2017年2月24日
    登録番号
    6856197
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 回線割当装置および回線割当方法

    出願日
    2017年2月3日
    登録番号
    6671689
    技術分野
    電気通信技術
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. 回線割当装置および回線割当方法

    出願日
    2017年2月3日
    登録番号
    6671689
    技術分野
    電気通信技術
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. 回線割当装置および回線割当方法

    出願日
    2017年2月3日
    登録番号
    6671689
    技術分野
    電気通信技術
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

    出願日
    2017年2月1日
    登録番号
    6953006
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  13. 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

    出願日
    2017年2月1日
    登録番号
    6953006
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  14. 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

    出願日
    2017年2月1日
    登録番号
    6953006
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  15. 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

    出願日
    2017年2月1日
    登録番号
    6953006
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  16. 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

    出願日
    2017年2月1日
    登録番号
    6953006
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  17. 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

    出願日
    2017年2月1日
    登録番号
    6953006
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  18. 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

    出願日
    2017年2月1日
    登録番号
    6953006
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  19. 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

    出願日
    2017年2月1日
    登録番号
    6953006
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  20. 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

    出願日
    2017年2月1日
    登録番号
    6953006
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  21. 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

    出願日
    2017年2月1日
    登録番号
    6953006
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  22. 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

    出願日
    2017年2月1日
    登録番号
    6953006
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  23. 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

    出願日
    2017年2月1日
    登録番号
    6953006
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  24. 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

    出願日
    2017年2月1日
    登録番号
    6953006
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  25. 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

    出願日
    2017年2月1日
    登録番号
    6953006
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  26. 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

    出願日
    2017年2月1日
    登録番号
    7175532
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  27. 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

    出願日
    2017年2月1日
    登録番号
    6953006
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  28. 水電解装置、機能水の製造方法

    出願日
    2016年11月11日
    登録番号
    6937005
    技術分野
    水，廃水，下水または汚泥の処理
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  29. 水電解装置、機能水の製造方法

    出願日
    2016年11月11日
    登録番号
    6937005
    技術分野
    電気分解または電気泳動方法；そのための装置
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  30. 水電解装置、機能水の製造方法

    出願日
    2016年11月11日
    登録番号
    6937005
    技術分野
    電気分解または電気泳動方法；そのための装置
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）