プルミアム
← 株式会社日立ハイテクの企業情報へ戻る

株式会社日立ハイテク

特許 全5032件

プルミアムが取得した明細を新しい日付順に掲載しています。30件ずつ表示し、最終ページまで確認できます。

全5032件 （1〜30件目を表示）

  1. プロセスレシピ探索装置

    出願日
    2022年6月17日
    登録番号
    7433368
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. プロセスレシピ探索装置

    出願日
    2022年6月17日
    登録番号
    7433368
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. プロセスレシピ探索装置

    出願日
    2022年6月17日
    登録番号
    7433368
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. プロセスレシピ探索装置

    出願日
    2022年6月17日
    登録番号
    7433368
    技術分野
    計算または計数
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 電池管理装置

    出願日
    2022年5月19日
    登録番号
    7430216
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 電池管理装置

    出願日
    2022年5月19日
    登録番号
    7430216
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 電池管理装置

    出願日
    2022年5月19日
    登録番号
    7430216
    技術分野
    電力の発電，変換，配電
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 電池管理装置

    出願日
    2022年5月19日
    登録番号
    7430216
    技術分野
    電力の発電，変換，配電
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 電池管理装置

    出願日
    2022年5月19日
    登録番号
    7430216
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. 温度検出装置および半導体処理装置

    出願日
    2022年3月16日
    登録番号
    7389938
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. 診断装置、半導体製造装置システム、半導体装置製造システムおよび診断方法

    出願日
    2022年3月14日
    登録番号
    7471513
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. プラズマ処理装置

    出願日
    2022年3月9日
    登録番号
    7326646
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  13. プラズマ処理装置

    出願日
    2022年3月9日
    登録番号
    7326646
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  14. プラズマ処理装置

    出願日
    2022年3月9日
    登録番号
    7340723
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  15. プラズマ処理装置

    出願日
    2022年3月9日
    登録番号
    7340723
    技術分野
    他に分類されない電気技術
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  16. プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置

    出願日
    2022年3月4日
    登録番号
    7423854
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  17. プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置

    出願日
    2022年3月4日
    登録番号
    7423854
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  18. 診断装置及び診断方法並びに半導体製造装置システム及び半導体装置製造システム

    出願日
    2022年2月24日
    登録番号
    7358679
    技術分野
    制御；調整
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  19. 診断装置及び診断方法並びに半導体製造装置システム及び半導体装置製造システム

    出願日
    2022年2月24日
    登録番号
    7358679
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  20. エッチング処理方法

    出願日
    2022年2月14日
    登録番号
    7474903
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  21. 診断装置、診断方法、半導体製造装置システム及び半導体装置製造システム

    出願日
    2022年2月7日
    登録番号
    7442013
    技術分野
    制御；調整
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  22. 診断装置、診断方法、半導体製造装置システム及び半導体装置製造システム

    出願日
    2022年2月7日
    登録番号
    7442013
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  23. エッチング方法

    出願日
    2022年2月2日
    登録番号
    7311652
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  24. 装置診断装置、半導体製造装置システムおよび半導体装置製造システム

    出願日
    2022年1月25日
    登録番号
    7406045
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  25. 装置診断装置、半導体製造装置システムおよび半導体装置製造システム

    出願日
    2022年1月25日
    登録番号
    7406045
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  26. 質量分析装置とその制御方法

    出願日
    2022年1月17日
    登録番号
    7480364
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  27. 質量分析装置とその制御方法

    出願日
    2022年1月17日
    登録番号
    7480364
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  28. 質量分析装置とその制御方法

    出願日
    2022年1月17日
    登録番号
    7480364
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  29. 質量分析装置とその制御方法

    出願日
    2022年1月17日
    登録番号
    7480364
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  30. 質量分析装置の制御方法

    出願日
    2021年12月17日
    登録番号
    7462075
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）