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株式会社アビット・テクノロジーズ

特許全12件

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全12件（1〜12件目を表示）

還元反応装置、及び被処理化合物の還元体の製造方法

出願日
2023年3月8日

登録番号
7349111

技術分野
物理的または化学的方法または装置一般

取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）
還元反応装置、及び被処理化合物の還元体の製造方法

出願日
2023年3月8日

登録番号
7349111

技術分野
物理的または化学的方法または装置一般

取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）
還元反応装置、及び被処理化合物の還元体の製造方法

出願日
2023年3月8日

登録番号
7349111

技術分野
無機化学

取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）
還元反応装置、及び被処理化合物の還元体の製造方法

出願日
2023年3月8日

登録番号
7349111

技術分野
物理的または化学的方法または装置一般

取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）
基板処理装置及び基板処理方法

出願日
2021年6月10日

登録番号
7002165

技術分野
基本的電気素子

取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）
基板処理装置及び基板処理方法

出願日
2021年6月10日

登録番号
7002165

技術分野
金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）
基板処理装置及び基板処理方法

出願日
2021年6月10日

登録番号
7002165

技術分野
金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）
基板処理装置及び基板処理方法

出願日
2021年6月10日

登録番号
7002165

技術分野
基本的電気素子

取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）
基板処理装置及び基板処理方法

出願日
2021年6月10日

登録番号
7002165

技術分野
金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）
絶縁膜の製造方法

出願日
2020年12月9日

登録番号
6918386

技術分野
基本的電気素子

取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）
絶縁膜の製造方法

出願日
2020年12月9日

登録番号
6918386

技術分野
基本的電気素子

取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）
絶縁膜の製造方法

出願日
2020年12月9日

登録番号
6918386

技術分野
基本的電気素子

取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）