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株式会社ハイドロネクスト

特許 全34件

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全34件 （1〜30件目を表示）

  1. 水素活用システム

    出願日
    2023年2月21日
    登録番号
    7329892
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 水素活用システム

    出願日
    2023年2月21日
    登録番号
    7329892
    技術分野
    ガスまたは液体の貯蔵または分配
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 水素活用システム

    出願日
    2023年2月21日
    登録番号
    7329892
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 水素活用システム

    出願日
    2023年2月21日
    登録番号
    7329892
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 水素透過装置

    出願日
    2020年9月17日
    登録番号
    7016116
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 水素透過装置

    出願日
    2020年9月17日
    登録番号
    7105427
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 水素透過装置

    出願日
    2020年9月17日
    登録番号
    7105427
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 水素透過装置

    出願日
    2020年9月17日
    登録番号
    7016116
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 水素透過装置

    出願日
    2020年9月17日
    登録番号
    7016116
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. 水素透過装置

    出願日
    2020年9月17日
    登録番号
    7016116
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. 水素透過装置

    出願日
    2020年9月17日
    登録番号
    7105427
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. 水素分離装置

    出願日
    2019年7月12日
    登録番号
    7307868
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  13. 水素分離装置

    出願日
    2019年7月12日
    登録番号
    7307868
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  14. 水素分離装置

    出願日
    2019年7月12日
    登録番号
    7307868
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  15. 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

    出願日
    2016年3月30日
    登録番号
    6847356
    技術分野
    冶金；鉄または非鉄合金；合金の処理または非鉄金属の処理
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  16. 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

    出願日
    2016年3月30日
    登録番号
    6934691
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  17. 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

    出願日
    2016年3月30日
    登録番号
    6847356
    技術分野
    鉄冶金
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  18. 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

    出願日
    2016年3月30日
    登録番号
    6847356
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  19. 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

    出願日
    2016年3月30日
    登録番号
    6934691
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  20. 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

    出願日
    2016年3月30日
    登録番号
    6934691
    技術分野
    無機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  21. 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

    出願日
    2016年3月30日
    登録番号
    6847356
    技術分野
    冶金；鉄または非鉄合金；合金の処理または非鉄金属の処理
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  22. 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

    出願日
    2016年3月30日
    登録番号
    6847356
    技術分野
    冶金；鉄または非鉄合金；合金の処理または非鉄金属の処理
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  23. 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

    出願日
    2016年3月30日
    登録番号
    6847356
    技術分野
    冶金；鉄または非鉄合金；合金の処理または非鉄金属の処理
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  24. 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

    出願日
    2016年3月30日
    登録番号
    6847356
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  25. 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

    出願日
    2016年3月30日
    登録番号
    6934691
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  26. 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

    出願日
    2016年3月30日
    登録番号
    6847356
    技術分野
    冶金；鉄または非鉄合金；合金の処理または非鉄金属の処理
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  27. 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

    出願日
    2016年3月30日
    登録番号
    6847356
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  28. 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

    出願日
    2016年3月30日
    登録番号
    6847356
    技術分野
    冶金；鉄または非鉄合金；合金の処理または非鉄金属の処理
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  29. 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

    出願日
    2016年3月30日
    登録番号
    6847356
    技術分野
    冶金；鉄または非鉄合金；合金の処理または非鉄金属の処理
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  30. 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜

    出願日
    2016年3月30日
    登録番号
    6847356
    技術分野
    冶金；鉄または非鉄合金；合金の処理または非鉄金属の処理
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）