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1. 基材層表層への機能層の形成方法及び形成装置

   出願日

   2018年4月5日

   登録番号

   6455746

   技術分野

   霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

2. 基材層表層への機能層の形成方法及び形成装置

   出願日

   2018年4月5日

   登録番号

   6611392

   技術分野

   霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

3. 基材層表層への機能層の形成方法及び形成装置

   出願日

   2018年4月5日

   登録番号

   6455746

   技術分野

   霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

4. 基材層表層への機能層の形成方法及び形成装置

   出願日

   2018年4月5日

   登録番号

   6455746

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

5. 基材層表層への機能層の形成方法及び形成装置

   出願日

   2018年4月5日

   登録番号

   6611392

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

6. 基材層表層への機能層の形成方法及び形成装置

   出願日

   2018年4月5日

   登録番号

   6455746

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

7. 基材層表層への機能層の形成方法及び形成装置

   出願日

   2018年4月5日

   登録番号

   6611392

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

8. 基材層表層への機能層の形成方法及び形成装置

   出願日

   2018年4月5日

   登録番号

   6611392

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

9. 基材層表層への機能層の形成方法及び形成装置

   出願日

   2018年4月5日

   登録番号

   6611392

   技術分野

   霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

10. 基材層表層への機能層の形成方法及び形成装置

    出願日

    2018年4月5日

    登録番号

    6611392

    技術分野

    積層体

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

11. 基材層表層への機能層の形成方法及び形成装置

    出願日

    2018年4月5日

    登録番号

    6455746

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

12. 基材層表層への機能層の形成方法及び形成装置

    出願日

    2018年4月5日

    登録番号

    6455746

    技術分野

    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

13. 基材層表層への機能層の形成方法及び形成装置

    出願日

    2018年4月5日

    登録番号

    6611392

    技術分野

    霧化または噴霧一般；流動性材料の表面への適用一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

14. 基材層表層への機能層の形成方法及び形成装置

    出願日

    2018年4月5日

    登録番号

    6455746

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

15. マスクの形成方法、これを利用したプリント配線基板の製造方法、電鋳部品の製造方法およびスクリーン印刷製版の製造方法

    出願日

    2016年10月20日

    登録番号

    6516367

    技術分野

    電気分解または電気泳動方法；そのための装置

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

16. マスクの形成方法、これを利用したプリント配線基板の製造方法、電鋳部品の製造方法およびスクリーン印刷製版の製造方法

    出願日

    2016年10月20日

    登録番号

    6516367

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

17. マスクの形成方法、これを利用したプリント配線基板の製造方法、電鋳部品の製造方法およびスクリーン印刷製版の製造方法

    出願日

    2016年10月20日

    登録番号

    6516367

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

18. マスクの形成方法、これを利用したプリント配線基板の製造方法、電鋳部品の製造方法およびスクリーン印刷製版の製造方法

    出願日

    2016年10月20日

    登録番号

    6516367

    技術分野

    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

19. マスクの形成方法、これを利用したプリント配線基板の製造方法、電鋳部品の製造方法およびスクリーン印刷製版の製造方法

    出願日

    2016年10月20日

    登録番号

    6516367

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

20. マスクの形成方法、これを利用したプリント配線基板の製造方法、電鋳部品の製造方法およびスクリーン印刷製版の製造方法

    出願日

    2016年10月20日

    登録番号

    6516367

    技術分野

    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

21. マスクの形成方法、これを利用したプリント配線基板の製造方法、電鋳部品の製造方法およびスクリーン印刷製版の製造方法

    出願日

    2016年10月20日

    登録番号

    6516367

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

22. マスクの形成方法、これを利用したプリント配線基板の製造方法、電鋳部品の製造方法およびスクリーン印刷製版の製造方法

    出願日

    2016年10月20日

    登録番号

    6516367

    技術分野

    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

23. マスクの形成方法、これを利用したプリント配線基板の製造方法、電鋳部品の製造方法およびスクリーン印刷製版の製造方法

    出願日

    2016年10月20日

    登録番号

    6516367

    技術分野

    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

24. マスクの形成方法、これを利用したプリント配線基板の製造方法、電鋳部品の製造方法およびスクリーン印刷製版の製造方法

    出願日

    2016年10月20日

    登録番号

    6516367

    技術分野

    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

25. マスクの形成方法、これを利用したプリント配線基板の製造方法、電鋳部品の製造方法およびスクリーン印刷製版の製造方法

    出願日

    2016年10月20日

    登録番号

    6516367

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

26. セラミックス電子部品の中間品の製造方法、セラミックス電子部品の中間品及びセラミックス電子部品

    出願日

    2016年7月14日

    登録番号

    6732250

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

27. セラミックス電子部品の中間品の製造方法、セラミックス電子部品の中間品及びセラミックス電子部品

    出願日

    2016年7月14日

    登録番号

    6732250

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

28. セラミックス電子部品の中間品の製造方法、セラミックス電子部品の中間品及びセラミックス電子部品

    出願日

    2016年7月14日

    登録番号

    6732250

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

29. セラミックス電子部品の中間品の製造方法、セラミックス電子部品の中間品及びセラミックス電子部品

    出願日

    2016年7月14日

    登録番号

    6732250

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

30. マスクの形成方法、これを利用したプリント配線基板の製造方法、電鋳部品の製造方法およびスクリーン印刷製版の製造方法

    出願日

    2016年4月15日

    登録番号

    6829859

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）