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株式会社エイワン・ディー

特許 全14件

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全14件 (1〜14件目を表示)

  1. 噴霧装置、噴霧装置の使用方法、及び噴霧装置を使用した空調方法

    出願日
    2019年9月12日
    登録番号
    7402486
    技術分野
    加熱;レンジ;換気
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  2. 浄化用組成物及び浄化用組成物の使用方法

    出願日
    2019年9月10日
    登録番号
    7302864
    技術分野
    水,廃水,下水または汚泥の処理
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  3. 土壌の処理方法

    出願日
    2019年9月10日
    登録番号
    7302863
    技術分野
    核物理;核工学
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  4. 浄化用組成物及び浄化用組成物の使用方法

    出願日
    2019年9月10日
    登録番号
    7302864
    技術分野
    水,廃水,下水または汚泥の処理
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  5. 土壌の処理方法

    出願日
    2019年9月10日
    登録番号
    7302863
    技術分野
    核物理;核工学
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  6. 土壌の処理方法

    出願日
    2019年9月10日
    登録番号
    7302863
    技術分野
    核物理;核工学
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  7. 土壌の処理方法

    出願日
    2019年9月10日
    登録番号
    7302863
    技術分野
    核物理;核工学
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  8. 土壌の処理方法

    出願日
    2019年9月10日
    登録番号
    7302863
    技術分野
    核物理;核工学
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  9. 浄化用組成物及び浄化用組成物の使用方法

    出願日
    2019年9月10日
    登録番号
    7302864
    技術分野
    固体廃棄物の処理;汚染土壌の再生
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  10. 浄化用組成物及び浄化用組成物の使用方法

    出願日
    2019年9月10日
    登録番号
    7302864
    技術分野
    核物理;核工学
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  11. 土壌の処理方法

    出願日
    2019年9月10日
    登録番号
    7302863
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  12. 浄化用組成物及び浄化用組成物の使用方法

    出願日
    2019年9月10日
    登録番号
    7302864
    技術分野
    核物理;核工学
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  13. 浄化用組成物及び浄化用組成物の使用方法

    出願日
    2019年9月10日
    登録番号
    7302864
    技術分野
    核物理;核工学
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  14. 浄化用組成物及び浄化用組成物の使用方法

    出願日
    2019年9月10日
    登録番号
    7302864
    技術分野
    染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)