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株式会社大商

特許 全3件

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全3件 (1〜3件目を表示)

  1. 被膜形成装置及び被膜形成方法

    出願日
    2017年3月30日
    登録番号
    6176768
    技術分野
    霧化または噴霧一般;流動性材料の表面への適用一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  2. 被膜形成装置及び被膜形成方法

    出願日
    2017年3月30日
    登録番号
    6176768
    技術分野
    霧化または噴霧一般;流動性材料の表面への適用一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  3. 被膜形成装置及び被膜形成方法

    出願日
    2017年3月30日
    登録番号
    6176768
    技術分野
    霧化または噴霧一般;流動性材料の表面への適用一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)