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株式会社エフケー光学研究所

特許 全8件

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全8件 （1〜8件目を表示）

  1. 異物検査装置及び異物検査方法

    出願日
    2019年2月21日
    登録番号
    7125576
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 異物検査装置及び異物検査方法

    出願日
    2019年2月21日
    登録番号
    7125576
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 異物検査装置及び異物検査方法

    出願日
    2018年6月12日
    登録番号
    6980241
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 異物検査装置及び異物検査方法

    出願日
    2018年6月12日
    登録番号
    6980241
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 異物検査装置及び異物検査方法

    出願日
    2018年6月12日
    登録番号
    7011348
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 異物検査装置及び異物検査方法

    出願日
    2018年6月12日
    登録番号
    7011348
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 位相計測装置

    出願日
    2016年9月25日
    登録番号
    6762183
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 位相計測装置

    出願日
    2016年9月25日
    登録番号
    6762183
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）