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住友重機械マテリアルソリューションズ株式会社

特許 全203件

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全203件 （1〜30件目を表示）

  1. イオン注入装置

    出願日
    2020年9月25日
    登録番号
    7478071
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. イオン注入装置

    出願日
    2020年9月25日
    登録番号
    7478071
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. イオン注入装置

    出願日
    2020年9月25日
    登録番号
    7478071
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. イオン注入装置

    出願日
    2020年9月25日
    登録番号
    7478071
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. イオン生成装置

    出願日
    2020年3月18日
    登録番号
    7414602
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. イオン注入装置およびモデル生成方法

    出願日
    2020年3月4日
    登録番号
    7414589
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. イオン注入装置およびモデル生成方法

    出願日
    2020年3月4日
    登録番号
    7414589
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. イオン注入装置およびモデル生成方法

    出願日
    2020年3月4日
    登録番号
    7414589
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. イオン注入装置

    出願日
    2019年11月1日
    登録番号
    7332437
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. イオン注入装置

    出願日
    2019年11月1日
    登録番号
    7332437
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. イオン注入装置およびイオン注入方法

    出願日
    2019年8月7日
    登録番号
    7242470
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. イオン注入装置およびイオン注入方法

    出願日
    2019年8月7日
    登録番号
    7242470
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  13. イオン注入装置およびイオン注入方法

    出願日
    2019年8月7日
    登録番号
    7242470
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  14. イオン注入装置およびイオン注入方法

    出願日
    2019年8月7日
    登録番号
    7242469
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  15. イオン注入装置およびイオン注入方法

    出願日
    2019年8月7日
    登録番号
    7242469
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  16. イオン注入装置およびイオン注入方法

    出願日
    2019年8月7日
    登録番号
    7242470
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  17. イオン注入装置およびイオン注入方法

    出願日
    2019年8月7日
    登録番号
    7242469
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  18. イオン注入装置およびイオン注入方法

    出願日
    2019年8月7日
    登録番号
    7242469
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  19. イオン注入装置およびイオン注入方法

    出願日
    2019年8月7日
    登録番号
    7242470
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  20. イオン注入装置およびイオン注入方法

    出願日
    2019年8月7日
    登録番号
    7242470
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  21. イオン注入装置およびイオン注入方法

    出願日
    2019年8月7日
    登録番号
    7242469
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  22. イオン注入装置およびイオン注入方法

    出願日
    2019年8月7日
    登録番号
    7242469
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  23. イオン注入装置およびイオン注入方法

    出願日
    2019年8月7日
    登録番号
    7242469
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  24. イオン注入装置およびイオン注入方法

    出願日
    2019年7月19日
    登録番号
    7234066
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  25. イオン生成装置およびイオン注入装置

    出願日
    2019年7月16日
    登録番号
    7256711
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  26. イオン生成装置およびイオン注入装置

    出願日
    2019年7月16日
    登録番号
    7256711
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  27. イオン生成装置およびイオン注入装置

    出願日
    2019年7月16日
    登録番号
    7256711
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  28. イオン生成装置およびイオン注入装置

    出願日
    2019年7月16日
    登録番号
    7256711
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  29. イオン生成装置およびイオン注入装置

    出願日
    2019年7月16日
    登録番号
    7256711
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  30. イオン生成装置およびイオン注入装置

    出願日
    2019年7月16日
    登録番号
    7256711
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）