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マシン・テクノロジー株式会社

特許 全31件

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全31件 (1〜30件目を表示)

  1. 段差解消機およびプラットホーム

    出願日
    2022年9月21日
    登録番号
    7250295
    技術分野
    鉄道
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  2. 蒸発装置

    出願日
    2022年8月9日
    登録番号
    7355348
    技術分野
    金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  3. 蒸発装置

    出願日
    2022年8月9日
    登録番号
    7355348
    技術分野
    金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  4. 蒸発装置

    出願日
    2022年8月9日
    登録番号
    7355348
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  5. 金属化フィルムおよびこれを用いたフィルムコンデンサ

    出願日
    2018年4月11日
    登録番号
    6434179
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  6. 金属化フィルムおよびこれを用いたフィルムコンデンサ

    出願日
    2018年4月11日
    登録番号
    6434179
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  7. 金属化フィルムおよびこれを用いたフィルムコンデンサ

    出願日
    2018年4月11日
    登録番号
    6434179
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  8. フィルム体巻取機構

    出願日
    2017年12月18日
    登録番号
    7095197
    技術分野
    運搬;包装;貯蔵;薄板状または線条材料の取扱い
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  9. フィルム体巻取機構

    出願日
    2017年12月18日
    登録番号
    7095197
    技術分野
    運搬;包装;貯蔵;薄板状または線条材料の取扱い
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  10. フィルム体巻取機構

    出願日
    2017年12月18日
    登録番号
    7095197
    技術分野
    金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  11. 酸化金属薄片製造装置および酸化金属薄片製造方法

    出願日
    2017年7月21日
    登録番号
    6416340
    技術分野
    金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  12. 酸化金属薄片製造装置および酸化金属薄片製造方法

    出願日
    2017年7月21日
    登録番号
    6416340
    技術分野
    金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  13. 酸化金属薄片製造装置および酸化金属薄片製造方法

    出願日
    2017年7月21日
    登録番号
    6416340
    技術分野
    金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  14. 酸化金属薄片製造装置および酸化金属薄片製造方法

    出願日
    2017年7月21日
    登録番号
    6416340
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  15. 加飾フィルム製造方法

    出願日
    2017年7月20日
    登録番号
    6472490
    技術分野
    装飾技術
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  16. 加飾フィルム製造方法

    出願日
    2017年7月20日
    登録番号
    6472490
    技術分野
    金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  17. 蒸発装置およびそれに用いる固定具

    出願日
    2016年7月22日
    登録番号
    6205028
    技術分野
    金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  18. 蒸発装置およびそれに用いる固定具

    出願日
    2016年7月22日
    登録番号
    6205028
    技術分野
    金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  19. 蒸発装置およびそれに用いる固定具

    出願日
    2016年7月22日
    登録番号
    6205028
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  20. 糖膜作製方法およびそれを利用した積層体製造方法

    出願日
    2016年5月27日
    登録番号
    6214720
    技術分野
    プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  21. 糖膜作製方法およびそれを利用した積層体製造方法

    出願日
    2016年5月27日
    登録番号
    6214720
    技術分野
    プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  22. 積層体製造方法

    出願日
    2015年3月2日
    登録番号
    6116084
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  23. 積層体製造方法

    出願日
    2015年3月2日
    登録番号
    6116084
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  24. パターニング材料付着装置および積層体形成装置

    出願日
    2015年3月2日
    登録番号
    6282241
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  25. パターニング材料付着装置および積層体形成装置

    出願日
    2015年3月2日
    登録番号
    6282241
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  26. パターニング材料付着装置および積層体形成装置

    出願日
    2015年3月2日
    登録番号
    6282241
    技術分野
    金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  27. 積層体製造方法

    出願日
    2015年3月2日
    登録番号
    6116084
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  28. 積層体製造方法

    出願日
    2015年3月2日
    登録番号
    6116084
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  29. 真空蒸着装置およびそれに用いるフィルムコンデンサ用の蒸発装置

    出願日
    2014年10月14日
    登録番号
    5987154
    技術分野
    金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  30. 真空蒸着装置およびそれに用いるフィルムコンデンサ用の蒸発装置

    出願日
    2014年10月14日
    登録番号
    5987154
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)