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つばさ真空理研株式会社

特許 全3件

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全3件 (1〜3件目を表示)

  1. イットリウム質保護膜およびその製造方法ならびに部材

    出願日
    2022年2月18日
    登録番号
    7154517
    技術分野
    金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  2. イットリウム質保護膜およびその製造方法ならびに部材

    出願日
    2022年2月18日
    登録番号
    7154517
    技術分野
    金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)
  3. イットリウム質保護膜およびその製造方法ならびに部材

    出願日
    2022年2月18日
    登録番号
    7154517
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元:Gビズインフォ(特許庁データ)