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1. 希土類酸化物粉末

   出願日

   2023年5月15日

   登録番号

   7474909

   技術分野

   無機化学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

2. 希土類酸化物粉末

   出願日

   2023年5月15日

   登録番号

   7474909

   技術分野

   無機化学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

3. 希土類酸化物粉末

   出願日

   2023年5月15日

   登録番号

   7474909

   技術分野

   無機化学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

4. 焼結体用材料及び焼結体

   出願日

   2022年7月26日

   登録番号

   7283026

   技術分野

   無機化学

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

5. 焼結体用材料及び焼結体

   出願日

   2022年7月26日

   登録番号

   7283026

   技術分野

   セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

6. 焼結体用材料及び焼結体

   出願日

   2022年7月26日

   登録番号

   7283026

   技術分野

   セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

7. 焼結体

   出願日

   2021年12月8日

   登録番号

   7351071

   技術分野

   セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

8. 焼結体

   出願日

   2021年12月8日

   登録番号

   7351071

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

9. 焼結体

   出願日

   2021年12月8日

   登録番号

   7351071

   技術分野

   セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

10. 放射性元素の含有量が低減したガドリニウム化合物を製造する方法、及びガドリニウム化合物

    出願日

    2021年4月5日

    登録番号

    6938813

    技術分野

    核物理；核工学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

11. 放射性元素の含有量が低減したガドリニウム化合物を製造する方法、及びガドリニウム化合物

    出願日

    2021年4月5日

    登録番号

    6938813

    技術分野

    冶金；鉄または非鉄合金；合金の処理または非鉄金属の処理

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

12. 放射性元素の含有量が低減したガドリニウム化合物を製造する方法、及びガドリニウム化合物

    出願日

    2021年4月5日

    登録番号

    6938813

    技術分野

    冶金；鉄または非鉄合金；合金の処理または非鉄金属の処理

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

13. 放射性元素の含有量が低減したガドリニウム化合物を製造する方法、及びガドリニウム化合物

    出願日

    2021年4月5日

    登録番号

    6938813

    技術分野

    冶金；鉄または非鉄合金；合金の処理または非鉄金属の処理

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

14. 放射性元素の含有量が低減したガドリニウム化合物を製造する方法、及びガドリニウム化合物

    出願日

    2021年4月5日

    登録番号

    6938813

    技術分野

    冶金；鉄または非鉄合金；合金の処理または非鉄金属の処理

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

15. 放射性元素の含有量が低減したガドリニウム化合物を製造する方法、及びガドリニウム化合物

    出願日

    2021年4月5日

    登録番号

    6938813

    技術分野

    核物理；核工学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

16. 放射性元素の含有量が低減したガドリニウム化合物を製造する方法、及びガドリニウム化合物

    出願日

    2021年4月5日

    登録番号

    6938813

    技術分野

    無機化学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

17. 放射性元素の含有量が低減したガドリニウム化合物を製造する方法、及びガドリニウム化合物

    出願日

    2021年4月5日

    登録番号

    6938813

    技術分野

    無機化学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

18. 放射性元素の含有量が低減したガドリニウム化合物を製造する方法、及びガドリニウム化合物

    出願日

    2021年4月5日

    登録番号

    6938813

    技術分野

    冶金；鉄または非鉄合金；合金の処理または非鉄金属の処理

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

19. 成膜用又は焼結用粉末

    出願日

    2021年3月18日

    登録番号

    7010445

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

20. 成膜用又は焼結用粉末

    出願日

    2021年3月18日

    登録番号

    7010445

    技術分野

    セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

21. 成膜用又は焼結用粉末

    出願日

    2021年3月18日

    登録番号

    7010445

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

22. 成膜用又は焼結用粉末

    出願日

    2021年3月18日

    登録番号

    7010445

    技術分野

    無機化学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

23. 成膜用又は焼結用粉末

    出願日

    2021年3月18日

    登録番号

    7010445

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

24. 光吸収体

    出願日

    2020年2月10日

    登録番号

    6942924

    技術分野

    染料；ペイント；つや出し剤；天然樹脂；接着剤；他に分類されない組成物；他に分類されない材料の応用

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

25. 光吸収体

    出願日

    2020年2月10日

    登録番号

    6942924

    技術分野

    染料；ペイント；つや出し剤；天然樹脂；接着剤；他に分類されない組成物；他に分類されない材料の応用

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

26. 光吸収体

    出願日

    2020年2月10日

    登録番号

    6942924

    技術分野

    染料；ペイント；つや出し剤；天然樹脂；接着剤；他に分類されない組成物；他に分類されない材料の応用

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

27. 光吸収体

    出願日

    2020年2月10日

    登録番号

    6942924

    技術分野

    光学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

28. 光吸収体

    出願日

    2020年2月10日

    登録番号

    6942924

    技術分野

    染料；ペイント；つや出し剤；天然樹脂；接着剤；他に分類されない組成物；他に分類されない材料の応用

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

29. コールドスプレー用材料

    出願日

    2019年10月18日

    登録番号

    7380966

    技術分野

    無機化学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

30. コールドスプレー用材料

    出願日

    2019年10月18日

    登録番号

    7380966

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）