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東ソー・ファインケム株式会社

特許 全663件

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全663件 （1〜30件目を表示）

  1. 高純度４－（２－ブロモエチル）ベンゼンスルホン酸及びそれから誘導される高純度スチレンスルホン酸類とそのポリマー、並びにそれらの製造方法

    出願日
    2022年3月9日
    登録番号
    7365444
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 高純度４－（２－ブロモエチル）ベンゼンスルホン酸及びそれから誘導される高純度スチレンスルホン酸類とそのポリマー、並びにそれらの製造方法

    出願日
    2022年3月9日
    登録番号
    7365444
    技術分野
    有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 高純度４－（２－ブロモエチル）ベンゼンスルホン酸及びそれから誘導される高純度スチレンスルホン酸類とそのポリマー、並びにそれらの製造方法

    出願日
    2022年3月9日
    登録番号
    7365444
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 高純度４－（２－ブロモエチル）ベンゼンスルホン酸及びそれから誘導される高純度スチレンスルホン酸類とそのポリマー、並びにそれらの製造方法

    出願日
    2022年3月9日
    登録番号
    7365444
    技術分野
    有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 高純度４－（２－ブロモエチル）ベンゼンスルホン酸及びそれから誘導される高純度スチレンスルホン酸類とそのポリマー、並びにそれらの製造方法

    出願日
    2022年3月9日
    登録番号
    7365444
    技術分野
    有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 高純度４－（２－ブロモエチル）ベンゼンスルホン酸及びそれから誘導される高純度スチレンスルホン酸類とそのポリマー、並びにそれらの製造方法

    出願日
    2022年3月9日
    登録番号
    7365444
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 高純度４－（２－ブロモエチル）ベンゼンスルホン酸及びそれから誘導される高純度スチレンスルホン酸類とそのポリマー、並びにそれらの製造方法

    出願日
    2022年3月9日
    登録番号
    7365444
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. １－クロロ－２，２－ジフルオロエチレンの製造方法

    出願日
    2021年8月2日
    登録番号
    7403504
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. １－クロロ－２，２－ジフルオロエチレンの製造方法

    出願日
    2021年8月2日
    登録番号
    7403504
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. １－クロロ－２，２－ジフルオロエチレンの製造方法

    出願日
    2021年8月2日
    登録番号
    7403504
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. １－クロロ－２，２－ジフルオロエチレンの製造方法

    出願日
    2021年8月2日
    登録番号
    7403504
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. スチレンスルホン酸重合体含有水性組成物及びそれを用いた乾燥塗膜

    出願日
    2021年4月7日
    登録番号
    7320551
    技術分野
    有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  13. スチレンスルホン酸重合体含有水性組成物及びそれを用いた乾燥塗膜

    出願日
    2021年4月7日
    登録番号
    7320551
    技術分野
    有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  14. スチレンスルホン酸重合体含有水性組成物及びそれを用いた乾燥塗膜

    出願日
    2021年4月7日
    登録番号
    7320551
    技術分野
    有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  15. スチレンスルホン酸重合体含有水性組成物及びそれを用いた乾燥塗膜

    出願日
    2021年4月7日
    登録番号
    7320551
    技術分野
    有機高分子化合物；その製造または化学的加工；それに基づく組成物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  16. セラミックスマトリックス複合材料及びその製造方法

    出願日
    2021年3月25日
    登録番号
    7372448
    技術分野
    セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  17. セラミックスマトリックス複合材料及びその製造方法

    出願日
    2021年3月25日
    登録番号
    7372448
    技術分野
    セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  18. 高純度β－ブロモエチルベンゼン及びその製造方法

    出願日
    2020年11月24日
    登録番号
    7087045
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  19. 高純度β－ブロモエチルベンゼン及びその製造方法

    出願日
    2020年11月24日
    登録番号
    7087045
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  20. 液晶素子基板

    出願日
    2020年8月7日
    登録番号
    7401057
    技術分野
    光学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  21. ジフルオロメチレン化合物及びその製造方法

    出願日
    2020年6月30日
    登録番号
    7482701
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  22. ジフルオロメチレン化合物及びその製造方法

    出願日
    2020年6月30日
    登録番号
    7482701
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  23. ジフルオロメチレン化合物及びその製造方法

    出願日
    2020年6月30日
    登録番号
    7482701
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  24. ジフルオロメチレン化合物及びその製造方法

    出願日
    2020年6月30日
    登録番号
    7482701
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  25. ２，３，４，５，６－ペンタフルオロスチレンの製造方法

    出願日
    2020年5月27日
    登録番号
    7485545
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  26. ２，３，４，５，６－ペンタフルオロスチレンの製造方法

    出願日
    2020年5月27日
    登録番号
    7485545
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  27. ３－アセトキシスチレンの製造方法

    出願日
    2020年4月20日
    登録番号
    7407651
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  28. ３－アセトキシスチレンの製造方法

    出願日
    2020年4月20日
    登録番号
    7407651
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  29. 含フッ素ホスホン酸の製造方法

    出願日
    2020年4月2日
    登録番号
    7454430
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  30. 二酸化炭素吸収液、及び富二酸化炭素吸収液の調製方法

    出願日
    2020年3月25日
    登録番号
    7369401
    技術分野
    有機化学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）