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株式会社大興製作所

特許 全14件

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全14件 （1〜14件目を表示）

  1. 放射線遮蔽材用焼結体、放射線遮蔽材及びその製造方法

    出願日
    2021年7月12日
    登録番号
    7165339
    技術分野
    核物理；核工学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. 放射線遮蔽材用焼結体、放射線遮蔽材及びその製造方法

    出願日
    2021年7月12日
    登録番号
    7165339
    技術分野
    核物理；核工学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. 処理液供給システムおよび処理液供給方法

    出願日
    2020年4月28日
    登録番号
    7460983
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 処理液供給システムおよび処理液供給方法

    出願日
    2020年4月28日
    登録番号
    7460983
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 処理液供給システムおよび処理液供給方法

    出願日
    2020年4月28日
    登録番号
    7460983
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. 紫外線照射装置

    出願日
    2019年11月20日
    登録番号
    7343746
    技術分野
    物理的または化学的方法または装置一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. 位置合わせ装置

    出願日
    2019年10月25日
    登録番号
    7356667
    技術分野
    測定；試験
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. 位置合わせ装置

    出願日
    2019年10月25日
    登録番号
    7356667
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 放射線減速材用ＭｇＦ２系フッ化物焼結体及びその製造方法

    出願日
    2015年12月18日
    登録番号
    6181869
    技術分野
    セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. 放射線減速材用ＭｇＦ２系フッ化物焼結体及びその製造方法

    出願日
    2015年12月18日
    登録番号
    6181869
    技術分野
    核物理；核工学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. 放射線減速材用ＭｇＦ２－ＣａＦ２二元系焼結体及びその製造方法

    出願日
    2015年9月18日
    登録番号
    6377587
    技術分野
    核物理；核工学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. 放射線減速材用ＭｇＦ２－ＣａＦ２二元系焼結体及びその製造方法

    出願日
    2015年9月18日
    登録番号
    6377587
    技術分野
    セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  13. 放射線減速材用ＭｇＦ２－ＣａＦ２二元系焼結体及びその製造方法

    出願日
    2015年9月18日
    登録番号
    6377587
    技術分野
    核物理；核工学
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  14. 中性子線減速材用フッ化物焼結体及びその製造方法

    出願日
    2014年5月27日
    登録番号
    5813258
    技術分野
    セメント；コンクリート；人造石；セラミックス；耐火物
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）