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1. 無電解めっきプロセス

   出願日

   2017年6月28日

   登録番号

   6466521

   技術分野

   他に分類されない電気技術

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

2. 無電解ニッケルストライクめっき液及びニッケルめっき皮膜の成膜方法

   出願日

   2017年6月28日

   登録番号

   6474860

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

3. 無電解ニッケルストライクめっき液及びニッケルめっき皮膜の成膜方法

   出願日

   2017年6月28日

   登録番号

   6474860

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

4. 無電解めっきプロセス

   出願日

   2017年6月28日

   登録番号

   6466521

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

5. 無電解めっきプロセス

   出願日

   2017年6月28日

   登録番号

   6466521

   技術分野

   金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

6. 無電解ニッケルストライクめっき液及びニッケルめっき皮膜の成膜方法

   出願日

   2017年6月28日

   登録番号

   6474860

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

7. 無電解めっきプロセス

   出願日

   2017年6月28日

   登録番号

   6466521

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

8. 無電解めっきプロセス

   出願日

   2017年6月28日

   登録番号

   6466521

   技術分野

   基本的電気素子

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

9. 無電解ニッケルストライクめっき液及びニッケルめっき皮膜の成膜方法

   出願日

   2017年6月28日

   登録番号

   6474860

   技術分野

   他に分類されない電気技術

   取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

10. 無電解めっきプロセス

    出願日

    2017年6月28日

    登録番号

    6466521

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

11. 無電解めっきプロセス

    出願日

    2017年6月28日

    登録番号

    6466521

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

12. 無電解めっきプロセス

    出願日

    2017年6月28日

    登録番号

    6466521

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

13. 無電解ニッケルストライクめっき液及びニッケルめっき皮膜の成膜方法

    出願日

    2017年6月28日

    登録番号

    6474860

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

14. 無電解ニッケルストライクめっき液及びニッケルめっき皮膜の成膜方法

    出願日

    2017年6月28日

    登録番号

    6474860

    技術分野

    基本的電気素子

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

15. 無電解パラジウム／金めっきプロセス

    出願日

    2016年10月5日

    登録番号

    6340053

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

16. 無電解パラジウム／金めっきプロセス

    出願日

    2016年10月5日

    登録番号

    6340053

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

17. 無電解パラジウム／金めっきプロセス

    出願日

    2016年10月5日

    登録番号

    6340053

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

18. 無電解パラジウム／金めっきプロセス

    出願日

    2016年10月5日

    登録番号

    6340053

    技術分野

    他に分類されない電気技術

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

19. 無電解白金めっき液

    出願日

    2015年10月15日

    登録番号

    6352879

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

20. 還元型無電解金めっき液及び当該めっき液を用いた無電解金めっき方法

    出願日

    2015年8月21日

    登録番号

    6017726

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

21. 還元型無電解金めっき液及び当該めっき液を用いた無電解金めっき方法

    出願日

    2015年8月21日

    登録番号

    6017726

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

22. 金レジネートの新規製造法

    出願日

    2014年12月16日

    登録番号

    5777792

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

23. 金レジネートの新規製造法

    出願日

    2014年12月16日

    登録番号

    5916835

    技術分野

    有機化学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

24. ノンシアン金化合物の新規製造法

    出願日

    2014年12月11日

    登録番号

    6037517

    技術分野

    有機化学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

25. 金めっき用ノンシアン金塩の新規製造法

    出願日

    2014年12月11日

    登録番号

    5807988

    技術分野

    電気分解または電気泳動方法；そのための装置

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

26. 金めっき用ノンシアン金塩の新規製造法

    出願日

    2014年12月11日

    登録番号

    5807988

    技術分野

    有機化学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

27. 金めっき用ノンシアン金塩の新規製造法

    出願日

    2014年12月11日

    登録番号

    5807988

    技術分野

    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

28. 金めっき用ノンシアン金塩の新規製造法

    出願日

    2014年12月11日

    登録番号

    5807988

    技術分野

    有機化学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

29. 金レジネートの新規製造法

    出願日

    2014年12月11日

    登録番号

    5738467

    技術分野

    有機化学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

30. ノンシアン金化合物の新規製造法

    出願日

    2014年12月11日

    登録番号

    6037517

    技術分野

    有機化学

    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）