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テクセンドフォトマスク株式会社

特許 全17件

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全17件 （1〜17件目を表示）

  1. フォトマスク及びその検査方法

    出願日
    2023年8月7日
    登録番号
    7482586
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  2. フォトマスク及びその検査方法

    出願日
    2023年8月7日
    登録番号
    7482586
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  3. フォトマスク及びその検査方法

    出願日
    2023年8月7日
    登録番号
    7482586
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  4. 反射型フォトマスクブランク及び反射型フォトマスク

    出願日
    2020年4月30日
    登録番号
    7421411
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  5. 反射型フォトマスクブランク及び反射型フォトマスク

    出願日
    2020年4月30日
    登録番号
    7421411
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  6. タングステンブランクス及びタングステン加工品の製造方法

    出願日
    2020年1月8日
    登録番号
    7477300
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  7. タングステンブランクス及びタングステン加工品の製造方法

    出願日
    2020年1月8日
    登録番号
    7477300
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  8. タングステンブランクス及びタングステン加工品の製造方法

    出願日
    2020年1月8日
    登録番号
    7477300
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  9. 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法、及び反射型マスクの修正方法

    出願日
    2019年12月18日
    登録番号
    7409861
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  10. 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法、及び反射型マスクの修正方法

    出願日
    2019年12月18日
    登録番号
    7409861
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  11. 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法、及び反射型マスクの修正方法

    出願日
    2019年12月18日
    登録番号
    7409861
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  12. 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法、及び反射型マスクの修正方法

    出願日
    2019年12月18日
    登録番号
    7409861
    技術分野
    金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  13. 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法、及び反射型マスクの修正方法

    出願日
    2019年12月18日
    登録番号
    7409861
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  14. 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法、及び反射型マスクの修正方法

    出願日
    2019年12月18日
    登録番号
    7409861
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  15. 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法

    出願日
    2019年11月14日
    登録番号
    7409830
    技術分野
    写真；映画；光波以外の波を使用する類似技術；電子写真；ホログラフイ
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  16. パターン形成体の製造方法

    出願日
    2018年9月19日
    登録番号
    7270350
    技術分野
    プラスチックの加工；可塑状態の物質の加工一般
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）

  17. パターン形成体の製造方法

    出願日
    2018年9月19日
    登録番号
    7270350
    技術分野
    基本的電気素子
    取得元：Gビズインフォ（特許庁データ）